多樣化襯底片產(chǎn)品介紹
在微電子建設應用、半導(dǎo)體、光學(xué)等高科技領(lǐng)域日漸深入，襯底片是重要的基礎(chǔ)材料動力，它如同建筑的基石，為各種微納加工工藝提供了穩(wěn)定且優(yōu)質(zhì)的平臺(tái)互動式宣講。我們提供種類豐富的襯底片效高性，滿足不同領(lǐng)域的多樣化需求。
硅片系列
Prime級(jí)硅片自動化，也就是正片提升，是半導(dǎo)體產(chǎn)品制造的“主力軍”。在集成電路不折不扣、MEMS和光學(xué)等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用支撐能力。我們提供2、4高效利用、6特征更加明顯、8寸的單晶硅片，摻雜類型涵蓋N/P講實踐，晶向有<100>/<111>/<110>數字技術，電阻率范圍從0.001 - 20000Ω·m，厚度在100um - 5mm之間市場開拓。而且措施，我們還能根據(jù)用戶需求進(jìn)行特殊定制大大縮短，確保每一片硅片都能契合客戶的工藝要求，為半導(dǎo)體產(chǎn)品的研發(fā)和生產(chǎn)提供堅(jiān)實(shí)的保障緊密相關。
Test級(jí)硅片更默契了，即測(cè)試片，是工藝檢測(cè)和控制培訓、設(shè)備性能評(píng)估以及新工藝研發(fā)的理想選擇不合理波動。雖然對(duì)電學(xué)性能沒有嚴(yán)格要求，但對(duì)潔凈度有高標(biāo)準(zhǔn)重要工具。它適用于那些對(duì)工藝穩(wěn)定性要求高積極拓展新的領域，但不需要復(fù)雜電學(xué)參數(shù)的場(chǎng)合，幫助客戶在研發(fā)和生產(chǎn)過程中及時(shí)發(fā)現(xiàn)并解決問題非常激烈。
Dummy級(jí)硅片競爭力所在，也就是假片、擋片或墊片領域。各項(xiàng)參數(shù)指標(biāo)雖然次于test級(jí)硅片溝通機製，但價(jià)格實(shí)惠。它一般用于潔凈度要求較低的單項(xiàng)工藝調(diào)試註入新的動力，是客戶在實(shí)驗(yàn)和調(diào)試階段降低成本領先水平、提高效率的好幫手。
功能性襯底片
氧化硅片表面有一層通過熱氧化工藝生長(zhǎng)的二氧化硅薄膜雙重提升。我們提供2戰略布局、4、6求索、8寸的氧化硅片讓人糾結，氧化層厚度可在20nm - 10um之間靈活選擇規模，并且可以根據(jù)用戶需求進(jìn)行特殊定制穩定發展。氧化硅層具有良好的絕緣性和穩(wěn)定性，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體器件的制造中聯動。
氮化硅片是通過LPCVD工藝在硅片表面沉積一層氮化硅薄膜制成的增持能力。目前我們提供2、4行業內卷、6寸的氮化硅片追求卓越，氮化硅層厚度在100nm - 1um范圍內(nèi)，同樣支持特殊定制參與能力。氮化硅層具有優(yōu)異的耐高溫合理需求、耐腐蝕性能，能有效保護(hù)襯底材料充分發揮。
其他襯底片
玻璃片牌號(hào)豐富高質量，包括BF33(7740)充分發揮、B270、D263T等管理。我們提供2設計、4、6寸的玻璃片改進措施，厚度在300um - 5mm之間就此掀開，有單面拋光和雙面拋光兩種選擇，可根據(jù)客戶需求進(jìn)行特殊定制奮勇向前。玻璃片在光學(xué)不斷豐富、顯示等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。
石英片分為熔融石英片和單晶石英片組建，具有耐高溫創新的技術、熱膨脹系數(shù)低、電絕緣性能良好等特點(diǎn)顯著。我們提供2快速增長、4、6寸的石英片占，厚度在300um - 5mm之間高質量，同樣支持單面和雙面拋光，可根據(jù)客戶需求特殊定制激發創作。石英片在高溫前景、高精度要求的場(chǎng)合表現(xiàn)出色。
藍(lán)寶石片
藍(lán)寶石的主要成分是氧化鋁(Al2O3)增幅最大，常用切面有A-Plane共享應用、C-Plane、R-Plane及M-Plane標準。它常被用在光學(xué)元件示範推廣、紅外裝置、高強(qiáng)度鐳射鏡片等光電元件上即將展開。我們提供2大幅增加、4、6寸的藍(lán)寶石片傳承，厚度在200um - 1mm之間等特點，有單面和雙面拋光可選，可根據(jù)客戶需求特殊定制多種。藍(lán)寶石片以其優(yōu)異的物理和化學(xué)性能將進一步，在光電領(lǐng)域占據(jù)重要地位。
我們致力于為客戶提供高質(zhì)量、多樣化襯底片產(chǎn)品成就，無論是標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格還是特殊定制同時，都能滿足客戶的個(gè)性化需求。選擇我們的襯底片效高性，就是選擇穩(wěn)定設計標準、高效和可靠，為您的科研和生產(chǎn)保駕護(hù)航互動互補。
