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簡(jiǎn)介：*的Rtec-化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CP-6允許以*的方式研究和表征CMP工藝產業。除了拋光晶圓和基板外，測(cè)試儀還配有在線表面輪廓儀情況較常見。這種組合提供了有關(guān)表面可持續，摩擦，磨損等變化的原因和方式的信息體製。測(cè)試儀還可以測(cè)...

簡(jiǎn)介：德國(guó)ATMSAPHIR250A2-ECO自動(dòng)雙盤磨拋機(jī)構建，工作盤直徑為200-250mm。新的工作盤裝配系統(tǒng)使得無需承載底盤即可提供全面的性能服務延伸。采用新的控制軟件共創輝煌，所有的制備方法可以被編輯和儲(chǔ)存，并通...

簡(jiǎn)介：AlliedMultiPrep研磨拋光機(jī)系統(tǒng)適用于高精微（光鏡調解製度，SEM精準調控，TEM，AFM應用的因素之一，etc）樣品的半自動(dòng)制備體系。主要性能包括平行拋光，精確角拋光開展試點，定址拋光或幾種方式結(jié)合拋光攜手共進。它保證良好的重現(xiàn)性，...

簡(jiǎn)介：●操作簡(jiǎn)單推進一步，使用安全方便經過。●全封閉殼體力度，清理方便明確了方向∠到y性！裼欣鋮s裝置，使用中能防止灰塵對(duì)人體傷害單產提升鬟f！襁\(yùn)行穩(wěn)定，砂帶不易跑偏勞動精神。

簡(jiǎn)介：●可同時(shí)拋光6個(gè)直徑30mm試樣開展攻關合作。●單點(diǎn)氣動(dòng)加載預下達，無需夾持試樣的有效手段。●一機(jī)多用：一機(jī)實(shí)現(xiàn)金相試樣的粗磨方案，精磨關鍵技術，粗拋和精拋的全過程∩钊?！駟纹瑱C(jī)控制系統(tǒng)表現，變頻器調(diào)速控制，系統(tǒng)穩(wěn)定可靠深刻變革。●具有磨盤磨頭自動(dòng)手動(dòng)...

簡(jiǎn)介：MY-2A型光譜砂帶磨樣機(jī)是經(jīng)多方的市場(chǎng)調(diào)研和采集多方面使用情況和諧共生、匯集各家之長(zhǎng)而研制開發(fā)的新產(chǎn)品質生產力。工作原理：電機(jī)通過三角帶A1270帶動(dòng)主動(dòng)滾筒，帶動(dòng)砂帶連接被動(dòng)滾筒技術交流，在電機(jī)的驅(qū)動(dòng)下砂帶作表面的直...

簡(jiǎn)介：MY-1型光譜砂帶磨樣機(jī)是全封閉不銹鋼組成的砂帶機(jī)先進的解決方案。砂帶下有一個(gè)水槽，在磨樣過程中資源配置，把污物帶下水中信息，使工作不會(huì)有污物在空氣中。該產(chǎn)品用于直讀光譜儀磨樣大力發展，還可以用于金相樣品進(jìn)行前道工序的預(yù)處理豐富內涵。

簡(jiǎn)介：GPM-2-300型光譜磨平機(jī)，該機(jī)外形新穎美觀產能提升，機(jī)架整體采用噴塑工藝制作適應性。該機(jī)使用極其方便，砂紙更換便捷通過活化，節(jié)約時(shí)間并避免浪費(fèi)落地生根，機(jī)箱內(nèi)部裝有吸塵裝置，安全環(huán)保健康發展。該機(jī)可以應(yīng)用于直讀直讀光譜儀制樣有效保障，也...

簡(jiǎn)介：DPF-2電解拋光腐蝕儀采用電化學(xué)原理進(jìn)行金相樣品的制備大數據。采用電解拋光和腐蝕制備的金相樣品避免了機(jī)械拋光所帶來的變形層，因此其組織真實(shí)無假象講實踐，是制備鈦數字技術、鋁、銅等有色金屬和高溫合金樣品的理想方法為產業發展。該...

簡(jiǎn)介：PG-1金相試樣拋光機(jī)是采集多方面使用人員的意見和要求設(shè)計(jì)而成的範圍和領域，它具有傳動(dòng)平穩(wěn)、噪音小各項要求、操作更高要求、維修方便等優(yōu)點(diǎn)。該機(jī)的拋光盤直徑和傳遞功率均大于國(guó)內(nèi)同類產(chǎn)品新技術，能適合更多種材料的拋光要求共同學習。