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KRI 離子源應(yīng)用于車(chē)載AR-HUD 鍍膜

來(lái)源：伯東企業(yè)（上海）有限公司 2023年12月11日 10:36

HUD 已經(jīng)成為一種常見(jiàn)的汽車(chē)配置與功能, 通過(guò)它來(lái)直觀顯示速度的發生、發(fā)動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)速或其他懸停在駕駛員視野中的信息, 減少因低頭查看儀表盤(pán)而造成的分心, 提升駕駛安全. 目前量產(chǎn)的車(chē)用抬頭顯示 HUD 正在從風(fēng)擋型 W-HUD 逐漸向增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)型的 AR-HUD 發(fā)展：從單純的信息展示屏幕, 變成了具有在實(shí)際路況位置產(chǎn)生警示符號(hào)的增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)(AR) 效果.

W-HUD/AR-HUD 一直都依賴(lài)光學(xué)凹面鏡成像原理實(shí)現(xiàn)距離與視覺(jué)尺寸的放大, AR-HUD大的技術(shù)挑戰(zhàn)在于:高放大倍率所衍生的高倍率畸變差暈眩問(wèn)題與太陽(yáng)光倒灌燒毀光機(jī)的問(wèn)題. 要使用越小的體積產(chǎn)生同樣的長(zhǎng)虛像距離 (VID) 距離, 放大倍率就得越大. 放大倍率越大, 陽(yáng)光倒灌與暈畸變差眩就越嚴(yán)重. 防陽(yáng)光倒灌濾光片可通過(guò) RGB 窄帶濾光片來(lái)實(shí)現(xiàn). 濾光片可實(shí)現(xiàn)可見(jiàn)光波段的高透過(guò)率, 同時(shí)截止近紅外和紫外波段, 獲得高的亮度測(cè)量靈敏度和動(dòng)態(tài)范圍.

KRi 離子源應(yīng)用于車(chē)載AR-HUD 鍍膜

上海伯東某客戶(hù)使用自主研發(fā)的鍍膜設(shè)備, 配備美國(guó) KRI 射頻離子源輔助鍍膜通過(guò)測(cè)驗(yàn), 得到具有高透過(guò)率、高匹配精度影響、膜層致密度和牢固度優(yōu)質(zhì), 高低溫變化波長(zhǎng)不漂移, 惡劣環(huán)境下耐久性良好的 RGB 窄帶濾光片, 上海伯東為車(chē)載AR-HUD TFT 防陽(yáng)光倒灌提供了優(yōu)質(zhì)鍍膜解決方案.

上海伯東美國(guó) KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過(guò)柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng)! 射頻源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含離子源本體, 電子供應(yīng)器, 中和器, 自動(dòng)控制器等. 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.

射頻離子源 RFICP 系列技術(shù)參數(shù):

型號(hào)	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 陽(yáng)極	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻
離子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
離子動(dòng)能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
柵極直徑	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	22 cm Φ	38 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
長(zhǎng)度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直徑	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000

上海伯東同時(shí)提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶(hù)生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專(zhuān). 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域.

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