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KRI 離子源應(yīng)用于超高真空磁控濺鍍設(shè)備

來源：伯東企業(yè)（上海）有限公司 2023年07月05日 14:20

KRI 離子源應(yīng)用于超高真空磁控濺鍍設(shè)備 UHV Sputter
上海伯東代理美國 KRI 離子源應(yīng)用于超高真空磁控濺鍍設(shè)備 UHV Sputter 實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量薄膜!
超高真空環(huán)境的特征為其真空壓力低于 10-8至10-12托, 且在化學(xué), 物理和工程領(lǐng)域十分常見. 超高真空環(huán)境對于科學(xué)研究非常重要, 因?qū)嶒?yàn)通常要求在整個(gè)實(shí)驗(yàn)的過程中, 表面應(yīng)保持無污染狀態(tài)并可使用較低能量的電子和離子的實(shí)驗(yàn)技術(shù)使用, 而不會(huì)受到氣相散射的干擾并可以在這樣超高真空環(huán)境下使用濺鍍系統(tǒng)以提供高質(zhì)量的薄膜.
KRI 離子源應(yīng)用于超高真空磁控濺鍍設(shè)備 UHV Sputter

針對超高真空和高溫加熱設(shè)計(jì)的基板旋轉(zhuǎn)鍍膜機(jī)構(gòu), 使用陶瓷培林旋轉(zhuǎn), 并在內(nèi)部做水冷, 來保護(hù)機(jī)構(gòu)以確保長時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)的穩(wěn)定.
KRI 離子源應(yīng)用于超高真空磁控濺鍍設(shè)備 UHV Sputter
通過使用上海伯東 KRI 離子源可實(shí)現(xiàn)基板清潔和加速鍍膜材料的濺射速度, 并且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積并使沉積后的薄膜更為致密.
濺鍍腔中在載臺(tái)部分可獨(dú)立施打偏壓, 對其基板進(jìn)行清潔與增加材料的附著性等功能.

上海伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 參數(shù):

型號(hào)	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 陽極	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻	RF 射頻
離子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
離子動(dòng)能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
柵極直徑	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	20 cm Φ	30 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
長度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直徑	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000

上海伯東美國 KRI 提供霍爾離子源, 考夫曼離子源和射頻離子源, 歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)利. 廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

若您需要進(jìn)一步的了解 KRI 離子源, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生

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