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TFMS-LD 反射光譜薄膜測厚儀

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具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱 合肥科晶材料技術(shù)有限公司
品牌
型號 TFMS-LD
所在地 合肥市
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時間 2017/1/9 11:48:11
訪問次數(shù) 1140

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特價說明：

促銷詳細：

2020年01月08日至 2020年02月08日

特價促銷

模內(nèi)澆口分離自動化先進技術，降低對人的依賴度培訓；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進行人工剪切分離宣講手段，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前重要工具，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動化配套設備，降低對人的依賴更優質。

產(chǎn)品簡介

我也要發(fā)布產(chǎn)品信息

TFMS-LD是一款反射光譜薄膜測厚儀，可快速精確地測量透明或半透明薄膜的厚度推進高水平，其測量膜厚范圍為15nm-50um領域，儀器所發(fā)出測試光的波長范圍為400nm-1100nm。此款測試系統(tǒng)理論基礎(chǔ)為鏡面反射率好宣講，并且采用光纖反射探頭註入新的動力。儀器尺寸小巧，方便于在實驗室中擺放和使用。

詳細信息在線詢價

TFMS-LD是一款反射光譜薄膜測厚儀去完善，可快速精確地測量透明或半透明薄膜的厚度，其測量膜厚范圍為15nm-50um長遠所需，儀器所發(fā)出測試光的波長范圍為400nm-1100nm。此款測試系統(tǒng)理論基礎(chǔ)為鏡面反射率讓人糾結，并且采用光纖反射探頭規模。儀器尺寸小巧，方便于在實驗室中擺放和使用。

技術(shù)參數(shù)

測量膜厚范圍	15nm-50um
光譜波長	400 nm - 1100 nm
主要測量透明或半透明薄膜厚度	氧化物氮化物光刻膠半導體（硅聯動，單晶硅增持能力，多晶硅等）半導體化合物（ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等）硬涂層（碳化硅，類金剛石炭）聚合物涂層(聚對二甲苯行業內卷，聚甲基丙烯酸甲酯追求卓越，聚酰胺) 金屬膜（點擊圖片可查看詳細資料）
特點	測量和數(shù)據(jù)分析同時進行，可測量單層膜參與能力，多層膜合理需求，無基底和非均勻膜包含了500多種材料的光學常數(shù)，新材料參數(shù)也可很容易地添加充分發揮，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等體積較小高質量，方便擺放和操作可測量薄膜厚度，材料光學常數(shù)和表面粗糙度使用電腦操作選擇適用，界面中點擊管理，即可進行測量和分析
精度	0.01nm或0.01%
準確度	0.2%或1nm
穩(wěn)定性	0.02nm或0.02%
光斑尺寸	標準3mm,可以小至3um
要求樣品大小	大于1mm
分光儀/檢測器	400 - 1100 nm 波長范圍光譜分辨率: < 1 nm 電源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W
光源	5W的鎢鹵素燈色溫：2800K 使用壽命:1000小時
反射探針	光學纖維探針，400um纖維芯配有分光儀和光源支架
載樣臺	測量時用于放置測量的樣品
通訊接口	USB接口業務指導，方便與電腦對接
TFCompanion軟件	強大的數(shù)據(jù)庫包含兩500多種材料的光學常數(shù)（n：折射率改進措施，K：消失系數(shù)）誤差分析和模擬系統(tǒng)，保證在不同環(huán)境下對樣品測量的準確性可分析簡單和復雜的膜系
設(shè)備尺寸	200x250x100mm
重量	4.5kg