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面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 合肥科晶材料技術(shù)有限公司
品牌
型號(hào) VTC-1RF
所在地 合肥市
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間 2017/1/9 11:13:12
訪問次數(shù) 956

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2020年01月08日至 2020年02月08日

特價(jià)促銷

模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度業務指導；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連改進措施，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前長足發展，消除后續(xù)工序今年，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴。

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

我也要發(fā)布產(chǎn)品信息

VTC-1RF是一款小型臺(tái)式單靶等離子濺射儀（射頻磁控型）動手能力，配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源逐步改善，此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜，特別是一些氧化物薄膜提升。對(duì)于新型非導(dǎo)電薄膜的探索大大提高，它是一款廉價(jià)并且高效的實(shí)驗(yàn)幫手。

詳細(xì)信息在線詢價(jià)

VTC-1RF是一款小型臺(tái)式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型)研究成果，配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源取得了一定進展，此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜，特別是一些氧化物薄膜大面積。對(duì)于新型非導(dǎo)電薄膜的探索積極參與，它是一款廉價(jià)并且高效的實(shí)驗(yàn)幫手。

我們用此設(shè)備得到擇優(yōu)取向的ZnO薄膜

技術(shù)參數(shù)

輸入電源	220VAC 50/60Hz, 單相 800W (包括真空泵）
等離子源	配有一13.5MHz,100W的射頻電源（采用手動(dòng)匹配）可選配300W射頻電源（自動(dòng)匹配）注意：100W手動(dòng)調(diào)節(jié)的RF（射頻）電源價(jià)格較低培養，但是每一次對(duì)于不同的靶材交流研討，都需要手動(dòng)設(shè)置參數(shù)才能產(chǎn)生等離子體，比較耗費(fèi)時(shí)間形式。300W自動(dòng)匹配的RF（射頻）電源建設應用，價(jià)格較昂貴，但比較節(jié)約時(shí)間日漸深入。（點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料）
磁控濺射頭	一個(gè)1英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層）相關，采用快速接頭與真空腔體相連接靶材尺寸: 直徑為25.4mm,zui大厚度3mm 一個(gè)快速擋板安裝在法蘭上濺射頭所需冷卻水：流速10L/min（儀器中配有一臺(tái)流速為16L/min的循環(huán)水冷機(jī)）同時(shí)可選配2英寸濺射頭選配2英寸濺射頭靶材尺寸：直徑為50.8mm，zui大厚度6mm
真空腔體	真空腔體：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H傳承，采用高純石英制作密封法蘭:直徑為165 mm . 采用金屬鋁制作等特點，采用硅膠密封圈密封一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩住整個(gè)石英腔體，以屏蔽等離子體真空度：<1.0×10^-² Torr （采用雙極旋片真空泵） <5×10^-5 torr （采渦旋分子泵）
載樣臺(tái)	載樣臺(tái)可旋轉(zhuǎn)（為了制膜更加均勻）并可加熱載樣臺(tái)尺寸：直徑50mm （zui大可放置2英寸的基片）旋轉(zhuǎn)速度：1 - 20 rpm 樣品臺(tái)的zui高加熱溫度為700℃(短期使用多種，恒溫不超過1小時(shí))將進一步，*使用溫度500℃ 控溫精度+/- 10℃
真空泵（選配）	我公司有多種真空泵可選，請(qǐng)點(diǎn)擊圖片發展成就，或是致電我公司銷售
薄膜測(cè)厚儀	一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上成就，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度，分辨率為0.10 Å LED顯示屏顯示開展面對面，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
質(zhì)保和質(zhì)量認(rèn)證	一年質(zhì)保期系統，終生維護(hù) CE認(rèn)證
外形尺寸
使用注意事項(xiàng)	這款1英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用于在單晶基片上制備氧化物膜，所以并不需要太高的真空度為了較好地排出真空腔體中的氧氣進一步提升，建議用5%H2+95 %N2對(duì)真空腔體清洗2-3次空間廣闊，可有效減少真空腔體中的氧含量請(qǐng)用純度大于5N的Ar來進(jìn)行等離子濺射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水改革創新，所以建議將鋼瓶中的惰性氣體通過凈化系統(tǒng)過后取得顯著成效，再導(dǎo)入到真空腔體內(nèi)