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ICP-9660 環(huán)保電感耦合光譜儀廠家

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環(huán)保電感耦合光譜儀廠家 ICP光譜分析儀(ICP-AES/OES)深入實施,主要用于微量/痕量元素的分析,可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅發展空間,磷等少量的非金屬效果,共72種。廣泛應(yīng)用于稀土足了準備、貴金屬合作關系、合金材料、電子產(chǎn)品深刻內涵、醫(yī)藥衛(wèi)生傳遞、冶金、地質(zhì)深入闡釋、石油更加廣闊、化工、商檢提高、環(huán)保以及釹鐵硼、硅進入當下、硅鐵紮實、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測重要作用,可對待測樣品進行定性或從超微量到常量的定量分析等地。

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環(huán)保電感耦合光譜儀廠家

環(huán)保電感耦合光譜儀廠家

ICP是光譜儀最為顯著,全稱:電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀 “等離子體光電直讀光譜儀”。 ICP光譜儀是當(dāng)前光譜分析中最迅速非常靈敏的一種儀器規定。

ICP光譜分析儀(ICP-AES/OES)環境,主要用于微量/痕量元素的分析,可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅高質量,磷等少量的非金屬相對簡便,共72種。廣泛應(yīng)用于稀土流程、貴金屬合作、合金材料、電子產(chǎn)品助力各業、醫(yī)藥衛(wèi)生極致用戶體驗、冶金、地質(zhì)應用、石油建議、化工、商檢相貫通、環(huán)保以及釹鐵硼不斷發展、硅、硅鐵集聚效應、鎢集成、鉬等行業(yè)分析檢測,可對待測樣品進行定性或從超微量到常量的定量分析互動講。

 ICP是光譜儀是將復(fù)色光分解為光譜穩定性,并進行記錄的精密光學(xué)儀器。在可見光和紫外光區(qū)域過程中,過去常用照相法記錄光譜去突破,故也稱攝譜儀。在紅外區(qū)域達到,一般用光敏或熱敏元件逐點記錄智能設備,故有紅外分光計的名稱。

 現(xiàn)在在各個波段均采用光電接收和記錄的方法蓬勃發展,比較直接技術特點、靈敏,稱為“光電記錄光譜儀”發展邏輯。為了得到更多的光譜線凝聚力量,可以把被分析物質(zhì)放在等離子體火焰中激發(fā),在光譜儀中除采用光電接收方法外聽得進,還配有專用計算機新的力量,計算物質(zhì)中各元素含量先進水平。可以在數(shù)秒種內(nèi)從顯示器的熒光屏讀出結(jié)果全面展示。

這種儀器可以說是速度和精度的非常好的結(jié)合重要平臺,儀器優(yōu)勢

1、化學(xué)干擾少,測試結(jié)果更加精準核心技術。

2應用提升、測試元素多,最多可測70余種元素。

3溝通協調、檢出限低,絕大多數(shù)元素可達pb級要素配置改革。

4、多元素同時測試,一次進樣所有元素同時測試保障性。

5帶動產業發展、分析速度快,每分鐘約5個元素,最快測試速度可到每分鐘10個元素。

6十分落實、線性范圍寬,可達5-6個數(shù)量級,可以實現(xiàn)高低含量同時測試,無需更換標準曲線倍增效應。

技術(shù)參數(shù):

1、輸入電源:電壓交流220V製造業,電流20A優化服務策略。

2、采用Czerny Turner型光路發展基礎,焦距為1000mm兩個角度入手。

3、離子刻蝕全息光柵同期,刻劃面積(80×110)mm生產效率。

4、全自動一鍵點火效果,自動匹配使用,點火穩(wěn)定、便捷可持續。

5主要抓手、采用同心圓霧化器搭配旋流霧室,1ppmMn強度>1000000cps構建。

6創新科技、分辨率(Mn257、610nm):≤0共創輝煌、005nm(4320刻線光柵)高效流通;

                                                     ≤0、008nm(3600刻線光柵)精準調控;

                                                      ≤0功能、015nm(2400刻線光柵);

7解決、波長范圍:190-460nm(4320刻線光柵)預期;

                        190-500nm(3600刻線光柵);

                        190-800nm(2400刻線光柵)幅度;

8結構、自主研發(fā)全固態(tài)射頻電源,輸出功率800-1600W,連續(xù)可調(diào)貢獻,電源效率大于65%規模最大,工作頻率27、12MHz統籌,頻率穩(wěn)定性<0最深厚的底氣、05%,功率輸出穩(wěn)定性<0振奮起來、05%品質。

光柵刻線光柵:2400刻線光柵:3600刻線光柵:4320刻線

波長范圍190nm-800nm190nm-500nm190nm-420nm

示值誤差±0.03nm±0.03nm±0.03nm

重復(fù)性≦0.005nm≦0.005nm≦0.005nm

光譜帶寬Mn 257.610nmMn 257.610nmMn 257.610nm

半高寬≦0.030nm半高寬≦0.015nm半高寬≦0.007nm

檢出限/(ug/L)Zn(213.856nm)≦ 3.0Zn(213.856nm)≦ 3.0Zn(213.856nm)≦ 3.0

Ni(231.604nm)≦ 10.0Ni(231.604nm)≦ 10.0Ni(231.604nm)≦ 10.0

Mn(257.610nm)≦ 2.0Mn(257.610nm)≦ 2.0Mn(257.610nm)≦ 2.0

Cr(267.716nm)≦ 7.0Cr(267.716nm)≦ 7.0Cr(267.716nm)≦ 7.0

Cu(324.754nm)≦ 7.0Cu(324.754nm)≦ 7.0Cu(324.754nm)≦ 7.0

Ba(455.403nm)≦ 1.0Ba(455.403nm)≦ 1.0Ba(455.403nm)≦ 1.0

重復(fù)性3號溶液 RSD≤1.5%3號溶液 RSD≤1.5(%)3號溶液 RSD≤1.5(%))

穩(wěn)定性3號溶液 RSD≤2%3號溶液 RSD≤2%3號溶液 RSD≤2%



 三、 產(chǎn)品規(guī)格與技術(shù)指標

1深入各系統、固態(tài)電源

(1)工作頻率:27.12MHz

(2)頻率穩(wěn)定性:<0.05%

(3)匹配方式:自動匹配

(4)輸出功率:800W~1600W,連續(xù)可調(diào),電源效率大于65%

(5)輸出功率穩(wěn)定性:≤0.05%

(6)輸出工作線圈內(nèi)徑25mm解決問題、3匝,配三同心外徑20mm的石英炬管

(7)同軸型噴霧器外徑6mm;旋流型霧化室

2、掃描分光器

(1)光路: Czerny turner型;

(2)焦距:1000mm

(3)光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵,刻線密度4320L/mm或3600L/mm或2400L/mm;

(4)刻劃面積(80x110)mm

(5)分辨率:s0.008nm(3600線光柵);s0.015nm(2400線光柵)0.005nm(4320線光柵)

(6)掃描波長范圍:190-460nm(4320L/mm光柵);3600線光柵:(190~500)nm;2400

(7)線光柵:(190~800)

3作用、電子測量及控制電路

(1)光電倍增管規(guī)格:R212/R928;

(2)光電倍增管負高壓:(-50~-1000)V;

(3)光電倍增管電流測量范圍:(10-12~10-4)A;

(4)信號采集:VF轉(zhuǎn)換

(5)顯示器:17英寸液晶顯示器;


精分檢測技術(shù)(濟南)有限公司

|

手機:13573190684

聯(lián)系人:韓經(jīng)理

電話:86-0531-69980259

傳真:86-區(qū)號-傳真號碼

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