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參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱(chēng) 成都祺鋒科技有限公司
品牌
型號(hào)
所在地 成都市
廠商性質(zhì) 其他
更新時(shí)間 2024/12/8 17:30:30
訪問(wèn)次數(shù) 16

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化大幅拓展，降低對(duì)人的依賴(lài)度發行速度；傳統(tǒng)的塑膠模具開(kāi)模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離積極性，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開(kāi)模前，消除后續(xù)工序不斷豐富，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化實施體系，降低對(duì)人的依賴(lài)。

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

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儀器介紹W5型全譜直讀光譜儀可快速的對(duì)金屬材料樣品進(jìn)行元素測(cè)定

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儀器介紹

W5型全譜直讀光譜儀可快速的對(duì)金屬材料樣品進(jìn)行元素測(cè)定各有優勢。光學(xué)系統(tǒng)采用CMOS檢測(cè)器效果較好，光譜范圍覆蓋全部典型材料。無(wú)論從低含量元素還是到高含量的元素持續，它都能******等多個領域、******的分析。公司在行業(yè)內(nèi)擁有光譜多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)積累產品和服務，針對(duì)不同材料應用擴展、不同要求，設(shè)計(jì)了這款全新的增多、更具性?xún)r(jià)比的全譜直讀光譜儀活動上，可滿足金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉用于質(zhì)量監(jiān)控進一步推進、材料牌號(hào)識(shí)別導向作用、材料研究和開(kāi)發(fā)的應(yīng)用。

產(chǎn)品特點(diǎn)

l 性能的光學(xué)系統(tǒng)
² 帕邢-龍格結(jié)構(gòu)凹面光柵應用的選擇，全譜覆蓋十大行動，滿足客戶(hù)對(duì)全元素檢測(cè)的需求。
² 直射式光學(xué)技術(shù)及采用MgF材料制作的光學(xué)器件背景下，******紫外區(qū)域的高性能綜合措施。
² 高分辯率多CMOS讀出系統(tǒng)，更低的暗電流自然條件，更好的檢出限建言直達，更高的穩(wěn)定性，更強(qiáng)的靈敏度至關重要，滿足N的分析要求不久前。

l 智能數(shù)字激發(fā)光源

² 全數(shù)字化智能復(fù)合光源DDD技術(shù)用上了，帶來(lái)分析性能。
² 緊湊的設(shè)計(jì)及半導(dǎo)體控制技術(shù)能力建設，使得光源具有更好的穩(wěn)定性關註、更強(qiáng)的******性。
² 高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS),激發(fā)參數(shù)調(diào)整無障礙，充分滿足不同基體連日來、不同樣品以及不同分析元素的激發(fā)要求。

l 激發(fā)臺(tái)直接將激發(fā)光導(dǎo)入光學(xué)系統(tǒng)
² 開(kāi)放式樣品臺(tái)認為，滿足大樣品測(cè)試要求系統。
² 變換電極可對(duì)小樣品及復(fù)雜幾何形狀樣品分析有更好的性能
² 視頻識(shí)別技術(shù)，確保樣品臺(tái)激發(fā)安全重要意義，可監(jiān)測(cè)樣品臺(tái)的全景交流等。

l 智能集成氣路模塊
² 智能氬氣流設(shè)計(jì)及粉塵收集清理裝置
² 的氬氣噴射技術(shù)，有效消除激發(fā)過(guò)程中等離子體的飄移規劃，確保CCD檢測(cè)器能夠觀測(cè)高溫區(qū)域光信號(hào)提高，提高精度和穩(wěn)定性。
² 激發(fā)后進入當下，脈沖式氬氣吹掃紮實，提高粉塵去除效果，提升儀器的短期和長(zhǎng)期穩(wěn)定性新體系。

l 智能真空測(cè)量和控制
² 真空系統(tǒng)******程控投入力度，在******真空度的同時(shí)減少真空泵的運(yùn)行時(shí)間，
² 雙級(jí)設(shè)置不難發現，在儀器不運(yùn)行的情況下法治力量，開(kāi)啟待機(jī)真空運(yùn)行狀態(tài)。
² 多級(jí)真空隔離措施及增加濾油裝置分享，保障光學(xué)元器件在******的環(huán)境中工作共享。

l 透鏡清理裝置
² 不銹鋼真空球閥，在清理透鏡時(shí)有良好的隔離效果方式之一。
² 單板式透鏡設(shè)計(jì)生動，拆裝方便。
² 交叉機(jī)械裝置創新能力，在未解除隔離的情況有效保護(hù)光學(xué)系統(tǒng)新品技。

應(yīng)用領(lǐng)域

技術(shù)參數(shù)：

項(xiàng)目	指標(biāo)
檢測(cè)基體	鐵基、銅基廣度和深度、鋁基深入交流、鎳基、鈷基、鎂基臺上與臺下、鈦基用的舒心、鋅基、鉛基集聚效應、錫基集成、銀基、錳基互動講、鉻基等13個(gè)基體
光學(xué)系統(tǒng)	帕型-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
波長(zhǎng)范圍	165~580nm（可安裝上下限檢測(cè)器擴(kuò)大波長(zhǎng)范圍）
光柵焦距	400mm
探測(cè) 器	高分辯率多CMOS圖像傳感器
光源類(lèi)型	DDD數(shù)字激發(fā)光源穩定性，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）
放電頻率	100-1000Hz
放電電流	不高于 400A
檢測(cè)時(shí)間	依據(jù)樣品類(lèi)型而定，一般在25s左右
電極類(lèi)型	鎢材噴射電極
分析間隙	樣品臺(tái)分析間隙:3.4mm
真空系統(tǒng)	真空軟件自動(dòng)控制過程中、監(jiān)測(cè)
光室恒溫	34℃去突破，溫度自動(dòng)監(jiān)測(cè)
氬氣純度	99.999%
氬氣壓力	0.5MPa
工作電源	AC220V 50/60Hz
儀器尺寸	860680438mm
儀器重量	約100kg