全自動(dòng)動(dòng)態(tài)吸附儀
(1) 產(chǎn)品介紹
DAS-7200全自動(dòng)多功能動(dòng)態(tài)吸附儀是一款自主創(chuàng)新的高品質(zhì)高性能的自動(dòng)化動(dòng)態(tài)吸附儀，可以實(shí)現(xiàn)加壓情況較常見，主要可用于化學(xué)吸附的測(cè)量可持續，操作方式有程序升溫（氧化還原性能、表面酸堿性體製、表面物種結(jié)構(gòu)和吸附能力）和化學(xué)滴定（吸附量構建、單點(diǎn)化學(xué)表面積、多點(diǎn)化學(xué)表面積服務延伸、分散度和顆粒度等）共創輝煌。
該裝置可采用全自動(dòng)和手動(dòng)操作模式。使用全自動(dòng)模式時(shí)進一步，可以在設(shè)置程序后點(diǎn)擊鼠標(biāo)大部分，儀器自動(dòng)完成程序過程強大的功能，并記錄實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)，也可以使用手動(dòng)操作模式解決方案，可實(shí)時(shí)對(duì)程序和測(cè)試方法進(jìn)行添加或修改優勢，方便操作者的操作。該裝置配備完整的測(cè)控和數(shù)據(jù)分析軟件幅度，可完成測(cè)定結(jié)果的自動(dòng)化生成結構，與此同時(shí)可對(duì)已測(cè)定結(jié)果進(jìn)行數(shù)據(jù)后處理。該吸附儀配備自主研發(fā)的高靈敏性檢測(cè)器貢獻，死體積小規模最大，靈敏度高，升溫過程中基線平穩(wěn)統籌。除此之外最深厚的底氣，簡(jiǎn)便的結(jié)構(gòu)形式方便其與其他分析儀器耦合使用，例如質(zhì)譜等單產提升鬟f？偟膩碚f，相比于國(guó)內(nèi)外同類產(chǎn)品勞動精神，該裝置具有更高的精度開展攻關合作、死體積小、重復(fù)性好預下達、操作簡(jiǎn)便等優(yōu)勢(shì)的有效手段。
(2) 特點(diǎn)
1. 適用于塊狀和顆粒狀樣品；
2. 該裝置可采用全自動(dòng)和手動(dòng)操作模式方案。使用全自動(dòng)模式時(shí)關鍵技術，可以在設(shè)置程序后點(diǎn)擊鼠標(biāo)，儀器自動(dòng)完成程序過程深入，并記錄實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)技術研究，也可以使用手動(dòng)操作模式，可實(shí)時(shí)對(duì)程序和測(cè)試方法進(jìn)行添加或修改開展研究，方便操作者的操作姿勢；
3. 一般在常壓下實(shí)驗(yàn)，也可實(shí)現(xiàn)加壓首要任務；
4. 配備全自動(dòng)六通閥適應性強，可實(shí)現(xiàn)程序升溫還原、程序升溫氧化先進的解決方案、程序升溫脫附以及脈沖滴定等過程；
5. 該裝置配備完整的測(cè)試軟件創造更多，測(cè)試程序可根據(jù)客戶要求進(jìn)行編程宣講活動，并可完成測(cè)定結(jié)果的自動(dòng)化生成不斷進步，與此同時(shí)可對(duì)已測(cè)定結(jié)果進(jìn)行數(shù)據(jù)后處理；
6. 采用直式反應(yīng)爐結(jié)構(gòu)效率，溫度控制精確規模，程序控溫線性度高；
7. 帶有注射口講道理，注射墊片可更換發展目標奮鬥，方便定量；
8. 通過閥門切換可實(shí)現(xiàn)氣體經(jīng)過或不經(jīng)過TCD檢測(cè)器更多的合作機會，防止TCD檢測(cè)器被有毒氣體或者腐蝕性氣體腐蝕延伸；
9. 儀器尾氣出口可與色譜（GC）、紅外（IR）有效保障、質(zhì)譜（MASS）等分析儀器聯(lián)用大數據；
10. 采用自動(dòng)進(jìn)樣六通閥，六通閥外置定量環(huán)講實踐，配備定量環(huán)體積為0.5 ml/1 ml；
11. 配有可觸摸高清電阻屏，可實(shí)時(shí)設(shè)置流量計(jì)流量管理、TCD溫度信息化技術、TCD橋流等信息；
12. 小型化結(jié)構(gòu)要落實好，尺寸為520 mm（寬）*460 mm（高）*410 mm（厚）緊密相關。
(3) 主要技術(shù)指標(biāo)
1. 反應(yīng)爐溫度：0~1200 oC（長(zhǎng)期恒溫溫度不低于900 oC）；
2. 反應(yīng)爐溫度曲線：線性可達(dá)到99.999%新技術，重復(fù)性低于1 oC共同學習；
3. 程序升溫速率：0.5~90 oC/min，也可以設(shè)置程序降溫程序深入；
4. 催化劑裝樣體積：0~1 ml（一般使用50~100 mg）效高；
5. 配備兩路質(zhì)量流量計(jì)，準(zhǔn)確度±1.5% F.S基礎，線性偏差±1.5% F.S性能，精度±0.2% F.S；
6. 軟件上設(shè)置多段溫度程序對外開放，具有獨(dú)立的PID參數(shù)技術創新，控制精度：0.2% FS；
7. 降溫快資料，從1000 oC下降至100 oC只需要10 min廣泛應用；
8. TCD死體積<0.02 ml，靈敏度>108 mol-1(NH3)橫向協同；
9. TCD穩(wěn)定性好哪些領域，控溫精度<±0.1 oC敢於挑戰。
(4) 軟件操作界面
自動(dòng)化運(yùn)行界面
手動(dòng)操作界面
優(yōu)點(diǎn)：
1. 包括自動(dòng)化和手動(dòng)界面，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化操作過程建立和完善，實(shí)現(xiàn)無人堅(jiān)守提供了遵循；也可以進(jìn)行手動(dòng)操作過程；
2. 實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器全狀態(tài)穩定發展，可實(shí)時(shí)獲取流量計(jì)流量基石之一、溫度、橋流等信息增持能力；
3. 可手動(dòng)編輯多達(dá)14段溫度程序共同努力，可點(diǎn)擊執(zhí)行和降溫按鈕即實(shí)行程序運(yùn)行；
4. 可在配置界面內(nèi)配置需要的程序服務，也可以使用軟件自帶的標(biāo)準(zhǔn)程序很重要，或進(jìn)行進(jìn)一步地編輯和修改，調(diào)出該程序后即自動(dòng)運(yùn)行覆蓋。
(5) 實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)
5.1 H2-TPR譜圖
測(cè)試條件：取0.1g 活性碳負(fù)載催化劑在He氣氛150 oC下處理1 h后降至室溫異常狀況，切換為5%H2/N2，待基線平穩(wěn)后程序升溫至600 oC高效，橋流120 mA應用創新， H2/N2混氣流量30 ml/min。
不同焙燒溫度處理的CuO基催化劑的H2-TPR譜圖
5.2 NH3-TPD譜圖
測(cè)試條件：取0.1g ZSM-5負(fù)載催化劑在He氣氛550 oC下處理30 min機構，后降溫至100 oC的特性，轉(zhuǎn)為NH3吸附1 h后再通入He進(jìn)行吹掃，待基線平穩(wěn)后程序升溫至900 oC基礎，橋流120 mA提供堅實支撐，載氣He流量40 ml/min。
ZSM-5負(fù)載催化劑的NH3-TPD譜圖
5.3 CO2-TPD譜圖
測(cè)試條件：取0.1g不同焙燒溫度處理的CuO基催化劑在He氣氛150 oC下處理1 h高產，后降溫至40 oC信息化技術，轉(zhuǎn)為CO2吸附1 h后再通入He進(jìn)行吹掃，待基線平穩(wěn)后程序升溫至800 oC良好，橋流120 mA逐步顯現，載氣He流量40 ml/min。
不同焙燒溫度處理的CuO基催化劑的CO2-TPD譜圖
