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Omni多角度粒度及高靈敏度Zeta電位分析儀

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  • 公司名稱 廈門淳涵科技有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào)
  • 所在地 廈門市
  • 廠商性質(zhì) 其他
  • 更新時(shí)間 2024/9/26 15:22:57
  • 訪問(wèn)次數(shù) 73

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產(chǎn)品詳情簡(jiǎn)介產(chǎn)品簡(jiǎn)介:Omni多角度粒度與高靈敏度Zeta電位分析儀結(jié)合了背向光散射技術(shù)與傳統(tǒng)動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)以及硬件PALS(Phase Analysis Scattering註入新的動力,相位分析光散射)技術(shù)領先水平,擁有15、90與173三個(gè)散射角度雙重提升,突破了傳統(tǒng)單角度光散射儀測(cè)量的局限性戰略布局,硬件PALS技術(shù)解決了低電泳遷移率體系Zeta電位的精確測(cè)量,是目前市場(chǎng)上功能大的粒度與Zeta電位分析儀表現明顯更佳。詳細(xì)說(shuō)明:作為將背向光散射技術(shù)(Back-Scattering)引入高濃度粒度分析的廠家狀態,Brookhaven公司應(yīng)用全新的光纖技術(shù)將背向光散射技術(shù)與傳統(tǒng)動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)進(jìn)行了結(jié)合,突破性地推出了結(jié)合15指導、90與173三個(gè)散射角度與硬件PALS(相位分析光散射)技術(shù)的Omni多角度粒與高靈敏度Zeta電位分析儀廣泛認同。隨著Omni的出現(xiàn),突破了傳統(tǒng)單角度光散射儀測(cè)量的局限性流動性,實(shí)現(xiàn)在同一臺(tái)粒度分析儀中鍛造,既可以同時(shí)兼顧大、小顆粒的散射光信號(hào)持續創新,又可以有效地提高了測(cè)量濃度上限改善,可達(dá)40%wt;硬件PALS技術(shù)(與傳統(tǒng)基于頻移技術(shù)的光散射方法相比合理需求,靈敏度可提高1000倍)的應(yīng)用是目前主流,解決了長(zhǎng)期以來(lái)無(wú)法對(duì)諸如在低介電常數(shù)、高粘度高質量、高鹽度......

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產(chǎn)品詳情簡(jiǎn)介
產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
Omni多角度粒度與高靈敏度Zeta電位分析儀結(jié)合了背向光散射技術(shù)與傳統(tǒng)動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)以及硬件PALS(Phase Analysis Scattering,相位分析光散射)技術(shù)選擇適用,擁有15°管理、90°與173°三個(gè)散射角度,突破了傳統(tǒng)單角度光散射儀測(cè)量的局限性業務指導,硬件PALS技術(shù)解決了低電泳遷移率體系Zeta電位的精確測(cè)量改進措施,是目前市場(chǎng)上功能大的粒度與Zeta電位分析儀。

詳細(xì)說(shuō)明:
作為將背向光散射技術(shù)(Back-Scattering)引入高濃度粒度分析的廠家積極性,Brookhaven公司應(yīng)用全新的光纖技術(shù)將背向光散射技術(shù)與傳統(tǒng)動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)進(jìn)行了結(jié)合奮勇向前,突破性地推出了結(jié)合15°、90°與173°三個(gè)散射角度與硬件PALS(相位分析光散射)技術(shù)的Omni多角度粒與高靈敏度Zeta電位分析儀實施體系。隨著Omni的出現(xiàn)組建,突破了傳統(tǒng)單角度光散射儀測(cè)量的局限性,實(shí)現(xiàn)在同一臺(tái)粒度分析儀中效果較好,既可以同時(shí)兼顧大重要的意義、小顆粒的散射光信號(hào)持續,又可以有效地提高了測(cè)量濃度上限,可達(dá)40%wt再獲;硬件PALS技術(shù)(與傳統(tǒng)基于頻移技術(shù)的光散射方法相比產品和服務,靈敏度可提高1000倍)的應(yīng)用,解決了長(zhǎng)期以來(lái)無(wú)法對(duì)諸如在低介電常數(shù)體驗區、高粘度增多、高鹽度以及等電點(diǎn)附近這些測(cè)量條件下(電泳遷移率比通常水相條件下低10-1000倍,傳統(tǒng)方法沒(méi)有足夠的分辨率進(jìn)行測(cè)量)的樣品進(jìn)行分析的難題有望。Omni是目前市場(chǎng)上功能大的粒度與Zeta電位分析儀共享應用。

NanoBrook產(chǎn)品系列
 
項(xiàng)目 173 173Plus Omni ZetaPALS  

粒度測(cè)量功能  
分子量測(cè)量功能  
Zeta電位測(cè)量功能  


 術(shù)

 參

 數(shù)
散射角 15°與173° 15°、90°與173°  
粒度范圍 0.3nm-10μm  
分子量測(cè)定范圍 342~2×107Dalton  
相關(guān)器 4×522個(gè)物理通道標準,4×1011個(gè)線性通道  
Zeta電位適用粒度范圍 1nm~100μm  
Zeta電位范圍 -500mV~500mV  
電導(dǎo)率范圍 0-30S/m  
電泳遷移率范圍 10-11~10-7m2/V.s  
電極 開(kāi)放式型電極  

統(tǒng)

數(shù)
溫控范圍與精度 -5~110℃示範推廣,±0.1℃  
激光源 35mW光泵半導(dǎo)體激光器  
檢測(cè)器 PMT或APD  
分析軟件 Particle Solution粒度與Zeta電位分析軟件  
大小及重量 233mm(H)×427mm(W)×481mm(D),15kg  

BI-ZTU自動(dòng)滴定儀 可對(duì)PH值即將展開、電導(dǎo)率和添加劑濃度作圖  
BI-870介電常數(shù)儀 直接測(cè)量溶劑的介電常數(shù)值  
  BI-SV10粘度計(jì) 用于測(cè)量溶劑及溶液的粘度
 
 
代表“有”  ○代表“無(wú)”
 
 
 
 
 
典型應(yīng)用  
IMG_2561.蛋白大幅增加、免疫球蛋白、縮氨酸傳承、DNA等特點、RNA、膠束
2.脂質(zhì)體多種、外切酶體及其他生物膠體
3.多糖將進一步、藥物制備
4.納米顆粒、聚合物膠乳發展成就、微乳液
5.油包水成就、水包油體系
6.涂料、顏料開展面對面、油漆系統、油墨、調(diào)色劑
7.食品連日來、化妝品配方
8.陶瓷快速融入、耐火材料、廢水處理系統、炭黑
 
應(yīng)用案例
IMG_257
    不同粒徑對(duì)Zeta電位等電點(diǎn)的影響                        不同官能團(tuán)配比對(duì)等電點(diǎn)的影響                     Zeta電位值與細(xì)胞吸收度的關(guān)系
    通過(guò)調(diào)整顆粒的粒徑或正負(fù)電荷官能團(tuán)的比例增強,混合電荷修飾的納米金顆粒其等電點(diǎn)可以在4~7之間明顯的變化,不同比例的官能團(tuán)和顆粒的靜電荷對(duì)動(dòng)物細(xì)胞吸收度有著重大影響交流等。(數(shù)據(jù)摘自JACS)
 
技術(shù)參數(shù)
1.粒度測(cè)量范圍:0.3nm~10μm
2.Zeta電位測(cè)量適用粒度范圍:1nm~100μm
3.樣品濃度范圍:0.1ppm至40%w/v(與顆粒大小和折射率有關(guān))
4.典型精度:1%
5.樣品類型:蛋白更加廣闊、納米粒子、聚合物及分散于水或其他溶劑中的膠體樣品
6.樣品體積:1~3ml
7.分子量測(cè)定范圍:342~2×107Dalton
8.Zeta電位范圍:-500mV~500mV
9.電導(dǎo)率范圍:0~30S/m
10.電泳遷移率范圍:10-11 ~ 10-7 m2 /V.s
11.電場(chǎng)強(qiáng)度:0 ~ 60 kV/m
12.電極:性開(kāi)放式電極數字化,電極材料純鈀方便;耐腐蝕電極(選件)基礎上;微量電極(選件)
13.溫控范圍與精度:-5℃~110℃,±0.1℃應用領域。
14.pH測(cè)量范圍:1-14
15.激光源:35mW光泵半導(dǎo)體激光器(可選5mW He-Ne激光器)
16.檢測(cè)器:高靈敏雪崩型二極管(APD)
17.相關(guān)器:4×522個(gè)物理通道保持競爭優勢,4×1011個(gè)線性通道,采用動(dòng)態(tài)采樣時(shí)間及動(dòng)態(tài)延遲時(shí)間分配
18.自動(dòng)趨勢(shì)分析:對(duì)時(shí)間發展機遇、溫度及其他參數(shù)
19.散射角:15°長效機製、90°與173°
20.室溫操作情況:10°C ~ 75°C,濕度 0% ~95%, 無(wú)冷凝
21.大小及重量:233mm (H) x 427 mm (W) x 481 mm (D)全技術方案,15 kg
22.電源:100/115/220/240 VAC, 50/60 Hz, 300 W
23.計(jì)算機(jī)(選件):商用計(jì)算機(jī)分享,包括WindowTM軟件
24.自動(dòng)滴定儀(選件):獨(dú)立四泵驅(qū)動(dòng),可對(duì)pH值信息化、電導(dǎo)率和添加劑濃度作圖


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