搭載場發(fā)射電子光學系統(tǒng) 將島津EPMA分析性能發(fā)揮到超高分辨率面分析對碳膜上Sn球放大3萬倍進行面分析

搭載場發(fā)射電子光學系統(tǒng)

將島津EPMA分析性能發(fā)揮到

超高分辨率面分析

對碳膜上Sn球放大3萬倍進行面分析運行好。即使是SE圖像（左側）上直徑只有50nm左右的Sn顆粒首次，在X射線圖像（右側）上也是清晰可見。

■ 大束流超高靈敏度分析
實現(xiàn)3.0μA（加速電壓30kV）的束流部署安排。
全束流范圍無需更換物鏡光闌搖籃。

■ 最多可同時搭載5通道高性能4英寸X射線譜儀
無人可及的52.5°X射線取出角。4英寸羅蘭圓半徑兼顧高靈敏度與高分辨率了解情況。
最多可同時搭載5通道相同規(guī)格的X射線譜儀深入。

■ 全部分析操作簡單易懂
全部操作僅靠一個鼠標就可進行的可操作性。
追求「易懂」的人性化用戶界面重要的。

搭載導航模式開展研究，自動指引直至生成報告。

■ 的空間分辨率

EPMA可達到的別的二次電子圖像分辨率3nm（加速電壓30kV）分析條件下的二次電子分辨率相互融合。（加速電壓10kV時20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）

■ 二次電子圖像分辨率3nm
碳噴鍍金顆粒的觀察實例首要任務。實現(xiàn)分辨率
3nm（@30kV）。相對較高的束流也可將電子束壓

細聚焦不同需求，更加容易的獲得高分辨率的SEM圖像

超高靈敏度面分析

使用1μA束流對不銹鋼進行5000倍的面分析發展。精確地捕捉到了Cr含量輕微不同形成的不同的相（左側），同時也成功地將含量不足0.1%的Mn分布呈現(xiàn)在我們眼前（右側）總之。

實現(xiàn)微區(qū)超高靈敏度分析的技術

1　高亮度肖特基發(fā)射體
場發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更大面向，輸出更高。即可以保持其高亮度研學體驗，還可提供高靈敏度分析的穩(wěn)定大電流建設項目。

2　 EPMA專用電子光學系統(tǒng)
電子光學系統(tǒng)最為突出，聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側，交叉點不是靠聚光透鏡形成相結合，而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上提升，具有獨立構成與控制方式的可變光闌透鏡來形成交叉點的（日本：第4595778號）。簡單的透鏡結構不折不扣，既能獲得大束流支撐能力，同時全部電流條件下設定最合適的打開角度，將電子束壓縮到最細高效利用。當然是不需要更換物鏡光闌的特征更加明顯。

3　超高真空排氣系統(tǒng)
電子槍室、中間室講理論、分析腔體之間分別安裝有篩孔（orifice）間隔方式的2級差動排氣系統(tǒng)數字技術。中間室與分析腔體間的氣流孔做到最小，以控制流入中間室的氣體市場開拓，使電子槍室始終保持著超高真空，確保發(fā)射體穩(wěn)定工作大大縮短。

4　高靈敏度X射線譜儀
最多可同時搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀要落實好。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號的空間分辨率的同時，又可減小樣品對X射線的吸收更默契了，實現(xiàn)高靈敏度的分析先進技術。