EH100膜厚儀是應(yīng)用于工業(yè)和科研領(lǐng)域中薄膜厚度常規(guī)測(cè)量的經(jīng)濟(jì)型解決方案技術先進，儀器一鍵操作極其簡(jiǎn)單更多的合作機會，可測(cè)量1nm–250um的透明或半透明薄膜，一次測(cè)量1秒內(nèi)完成

EH100 膜厚儀是應(yīng)用于工業(yè)和科研領(lǐng)域中薄膜厚度常規(guī)測(cè)量的經(jīng)濟(jì)型解決方案認為，儀 器一鍵操作極其簡(jiǎn)單服務好，可測(cè)量 1nm –250um 的透明或半透明薄膜，一次測(cè)量 1 秒內(nèi)完成反應能力。 EH100 膜厚儀基于白光干涉反射光譜的測(cè)量原理發展邏輯， 即寬光譜光波 0°垂直入射到樣品表面，在樣品基底 和膜層之間發(fā)生干涉有所提升，反射光波由高靈敏度光譜陣列 探測(cè)單元接收，采用專(zhuān)用軟件對(duì)光波的光譜反射率進(jìn) 行分析新的力量，得到樣品鍍層的膜厚信息先進水平。進(jìn)一步，還可以 通過(guò)分析得到膜層的其它物理信息（如全面展示，折射率重要平臺、消 光系數(shù)），光譜范圍可覆蓋從紫外到近紅外核心技術。 EH100 膜厚儀主要用于光面基底上的透明順滑地配合、半透 明薄膜樣品進(jìn)行常規(guī)測(cè)量，可得到單層或少數(shù)多層薄 膜的膜厚效高，也可以得到薄膜的光學(xué)參數(shù)（如前沿技術，折射率 n、消光系數(shù) k）性能。此外多種方式，也可以用 于粗糙表面上膜厚的測(cè)量。