ESNano光譜橢偏儀是應(yīng)用于工業(yè)或科研領(lǐng)域中納米薄膜厚度和折射率常規(guī)測量的臺式解決方案

ESNano光譜橢偏儀是應(yīng)用于工業(yè)或科研領(lǐng)域中納米薄膜厚度和折射率常規(guī)測量的臺式解決方案。 儀器操作及其簡單改善，僅通過放置樣品、點擊一個按鈕的必然要求，即可在數(shù)秒內(nèi)完成一次高精度測量支撐作用。 ESNano光譜橢偏儀采用步進補償器掃描測量模式日漸深入，利用高靈敏度陣列探測單元和專用橢偏分析軟件，通過光波在樣品表面反射前后偏振態(tài)的變化得到樣品信息綜合措施。儀器用于常規(guī)測量單層和多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)（如可靠保障，厚度）和物理參數(shù)（如，折射率n設計標準、消光系數(shù)k開展，或介電函數(shù)ε1和ε2），也可用于測量塊狀材料的光學(xué)性質(zhì)發揮重要帶動作用。