蔡司 Xradia 510 Versa
——靈活、創(chuàng)新上高質量、非破壞性
用途廣泛的 X 射線顯微鏡（XRM） 使用非破壞性的X射線成像保護并延長了有價值的樣品的
使用時間一站式服務。Xradia 510 Versa 充分發(fā)揮了X射線顯微鏡
（XRM）的性能，能夠為各種不同的樣品和研究環(huán)境提
供靈活的 3D 成像解決方案深入交流。
Xradia 510 Versa 擁有高達 0.7 μm的真實空間分辨率引領作用，
體素大小低至70 nm ，將接近同步輻射技術水平的成像
性能擴展到了世界各地的重要實驗室臺上與臺下。結(jié)合的吸收襯
度技術和適用于軟材料或低原子序數(shù)材料的創(chuàng)新相位襯度
技術用的舒心，Xradia 510 Versa的通用性得到提升，以至能夠突
破傳統(tǒng)計算機斷層掃描方法的局限性助力各行。
超越微米 CT 的性能 蔡司 Xradia 510 Versa 系列解決方案使科學研究突破了
基于投影的微米 CT 和納米 CT 系統(tǒng)的限制前來體驗。傳統(tǒng)斷層
掃描依賴于單級幾何放大，而 Xradia 510 Versa 依靠同
步輻射技術水平的光學器件確定性，采用了蔡司的兩級
放大技術更加廣闊。
多尺度范圍成像功能可以對同一樣品進行大范圍的多
倍率成像。在繁忙的實驗室工作中講故事，所有科研人員都
可以方便操作 Xradia 510 Versa非常完善。
的 4D / 原位解決方案 非破壞性的X射線顯微鏡對原位狀態(tài)下的材料微結(jié)構(gòu)以及
特征隨時間的演化（4D）進行的表征。
依托蔡司的 RaaD 功能全面革新，Xradia 510 Versa 對原位狀態(tài)
高精度原位臺中的各種尺寸的樣品都保持亞微米級分辨
率作用。Xradia 510 Versa 原位分析套件通過優(yōu)化設置和操
作， 實現(xiàn)了高易用性行業分類，同時縮短了獲得結(jié)果的時間技術特點。
為亞微米級 3D 成像帶來靈活性 蔡司 Xradia 510 Versa 憑借其突破性技術和高分辨率探
測器提高鍛煉，將 3D X射線顯微鏡( XRM )的性能提升至新的高
度，為各種尺寸的樣品提供亞微米級成像解決方案高質量。通過
其的分辨率也逐步提升、襯度和靈活的工作距離以及行業(yè)領
先的原位/4D 解決方案的強大組合，有力拓展了非破壞性
的實驗室成像能力註入了新的力量。
技術參數(shù) | 成像 |
| 空間分辨率 0.7 μm |
| 50 mm 工作距離下的分辨率（ RaaD）* 1.0 µm |
| 最小可實現(xiàn)的體素** （放大倍率下樣品的體素大兄匾淖饔?。?/span> 70 nm |
| * RaaD 工作距離按照旋轉(zhuǎn)軸周圍的間隙定義 |
| ** 體素（也被稱作“ 標稱分辨率” 或“ 細節(jié)可探測性” 是一個幾何術語， 與分辨率相關去創新， 但不用于確定分辨率足夠的實力， 在這里提出僅用于比較。 |
| 蔡司使用空間分辨率指標結構，它是衡量分辨率意義的方法更適合。 |
| X 射線源 |
| 類型 | | 密封透射 | |
| 管電壓范圍 30 - 160 kV |
| 輸出 10 W |
輻射安全度（外殼表面以上25mm 外測量） < 1µS/hr
探測系統(tǒng) |
| 蔡司X 射線顯微鏡擁有創(chuàng)新探測器轉(zhuǎn)臺， 裝有多個不同放大倍率的物鏡溝通協調。每個物鏡配備優(yōu)化的閃爍體要素配置改革，可提供吸收襯度細節(jié)。 |
| 標準物鏡 0.4X, 4X, 20X |
可選物鏡 40X
樣品臺 |
| 樣品臺（負荷能力） 15 kg |
| 樣品臺（x, y, z） 45, 100, 50 mm |
| 樣品包（旋轉(zhuǎn)） 360º |
| 光源行程（z） 190 mm |
| 探測器行程(z） 290 mm |
樣品尺寸限制
功能比較 | 300 mm
Xradia 520 Versa |
Xradia 510 Versa |
Xradia 410 Versa |
| “ 搜索和掃描” 控制系 • • • |
| 統(tǒng)自動 X 射線過濾轉(zhuǎn)換器 • |
| 高寬厚比掃描（HART） • |
| 雙掃描襯度可視化系統(tǒng)（DSCoVer） • |
| 自動進樣系統(tǒng) | 可選 | 可選 | 可選 |
| 寬視場模式（WFM） | 0.4X 和4X | 0.4X | 0.4X |
| GPU 基于CUDA 重建 | 雙 | 單 | 單 |
| 原位接口套件 | 可選 | 可選 | 可選 |
