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太陽能硅板檢測儀DJM-200C

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詳細(xì)信息 在線詢價

     蔡康晶圓硅片缺陷觀測儀(DJM-200C)作用,于對硅片的缺陷進(jìn)行觀察,效果非常明顯行業分類,包括肉眼無法觀測的位錯技術特點、層錯、劃痕發展邏輯、崩邊等凝聚力量。

     光伏硅片質(zhì)量檢測,有很多項目聽得進,比如:破片新的力量、缺角、孔洞和翹曲等等便利性。為什么會有這些檢測項目全面展示?有些項目很容易理解,比如:破片深刻認識、缺角等不僅會影響賣相核心技術,還會造成后續(xù)電池片生產(chǎn)的問題,甚至影響轉(zhuǎn)換效率主動性。但孔洞創造性,尤其是很小很小的孔洞,似乎沒什么大不了基礎。其實不然性能,新的研究表明,小小的孔會造成大大的問題對外開放。就好像千里之堤技術創新,毀于蟻穴。 

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一:蔡康晶圓檢測儀堅定不移,多晶硅缺陷分析儀太陽能硅板檢測儀DJM-200C概述和硅片缺陷檢測方法和應(yīng)用范圍:

(一)光伏硅片質(zhì)量檢測中更讓我明白了,有很多項目迎難而上,比如:破片、缺角、孔洞和翹曲等等堅持先行。為什么會有這些檢測項目產業?有些項目很容易理解,比如:破片情況較常見、缺角等不僅會影響賣相可持續,還會造成后續(xù)電池片生產(chǎn)的問題,甚至影響轉(zhuǎn)換效率體製。但孔洞構建,尤其是很小很小的孔洞,似乎沒什么大不了服務延伸。其實不然共創輝煌,的研究表明,小小的孔會造成大大的問題進一步。就好像千里之堤大部分,毀于蟻穴。 
  1.孔洞:大量存在實際需求,3~10um解決方案,人眼不易發(fā)現(xiàn)。必須用背光源敢於監督。 
  孔洞的危害:經(jīng)研究發(fā)現(xiàn)***攜手共進,硅晶片上孔洞會造成加工成電池片的短路,降低電池片的轉(zhuǎn)換效率推進一步;如果因為硅片上的孔洞形成的短路塊剛好落在柵線上經過,就會造成大面積的短路,加大電池片的漏電流力度,影響轉(zhuǎn)換效率明確了方向。所以必須檢測孔洞,一般人眼能分辨0.3mm以上的孔洞勇探新路,0.003~0.01mm的孔洞只能借助與光學(xué)的檢測手段來實現(xiàn)單產提升。檢測時需采用高亮度的白色背光源,穿透力強的光經(jīng)過孔洞后試驗,部分頻率的分量會使相機感光勞動精神,形成藍(lán)綠色的成像。相機的像素分辨率需要做得很高製度保障,比如一個像素等于0.005mm預下達,這樣有機會捕捉到3um~10um孔透過的光,并由軟件識別統籌推進。 
  2.硅片翹曲或彎曲:不能忽視方案。硅片翹曲不僅使得做成電池片后尺寸不合乎要求關鍵技術,而且還會造成斷柵。 
  研究表明:因為硅片翹曲深入,做成電池片后技術研究,通過EL檢測,發(fā)現(xiàn)里面有絲狀裂紋或花斑開展研究,但做成模組后姿勢,花斑情況有改善。分析表明首要任務,因為電池片翹曲(根源上是硅片翹曲)適應性強,在絲印時會造成印刷不均勻,形成斷柵先進的解決方案。 
  硅片的翹曲需要采用3D的檢測方法拓展,具體表征硅片翹曲的指標(biāo)有TTV、MTV等等宣講活動。檢測的方法可以采用將結(jié)構(gòu)光(線激光)投射到硅片上不斷進步,用相機進(jìn)行拍照;通過軟件分析光線成像的幾何特征豐富內涵,可以計算出TTV生產效率、MTV等指標(biāo),跟標(biāo)準(zhǔn)值進(jìn)行比對適應性,可以得出硅片翹曲是否在可以接受的范圍節點。 
  以上兩點,是的研究發(fā)現(xiàn)落地生根。如果檢測不到位,“后果很嚴(yán)重”大數據。電池片廠家在來料檢測上,不可不注意措施。 
  產(chǎn)品介紹: 
  蔡康晶圓硅片缺陷觀測儀(DJM-200C)新技術,于對硅片的缺陷進(jìn)行觀察,效果非常明顯性能,包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕長遠所需、崩邊等聯動。 
  實時對圖像進(jìn)行分析能力和水平、測量和統(tǒng)計機構,提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵基礎。配合投影儀和計算機等顯示提供堅實支撐、存儲設(shè)備,能更好的觀測和保存研究結(jié)果高產; 
  硅片缺陷觀測儀-產(chǎn)品特點 
  ■適用于對硅片的缺陷觀察效果信息化技術,非常明顯,包括肉眼無法觀測的位錯良好、層錯逐步顯現、劃痕、崩邊等引領; 
  ■使硅片缺陷觀察工作簡單化快速增長,準(zhǔn)確化,同時極大程度降低此項工作強度占; 
  ■實時對圖像進(jìn)行分析高質量、測量和統(tǒng)計,提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵激發創作。配合投影儀和計算機等顯示逐步改善、存儲設(shè)備,能更好的觀測和保存研究結(jié)果提升; 
  ■使用 數(shù)字CCD攝像機 感光芯片大大提高,具有體積小,技術(shù)研究成果,像素較高取得了一定進展,成像清晰、線條細(xì)膩大面積、色彩豐富積極參與; 
  ■傳輸接口為 USB2.0高速接口,軟件模塊化設(shè)計培養; 
  ■有效分辨率為 1000萬像素交流研討; 
  ■所配軟件能兼容 windows 7和 windows XP 操作系統(tǒng)。
 
蔡康晶圓缺陷分析儀DJM-200C,太陽能單晶硅片缺陷分析
(三)蔡康太陽能光伏單晶硅片缺陷分析儀技術(shù)介紹和儀器組成

   一形式、大平臺太陽能硅片缺陷分析金相顯微鏡儀器的主要用途和特點
       DJM-200C系列反射明暗場
大平臺太陽能硅片缺陷分析金相顯微鏡可進(jìn)行明視場建設應用、暗視場、簡易偏光觀察日漸深入。是半導(dǎo)體檢驗動力、電路封狀、電路基板互動式宣講、材料等行業(yè)理想儀器效高性。 DMM-990大平臺晶圓缺陷分析金相顯微鏡具有圖像清晰、襯度好自動化,造型美觀提升,操作方便等特點高品質,是材料學(xué)、金屬學(xué)支撐能力、礦物學(xué)資源優勢、精密工程學(xué)、電子學(xué)等研究的理想儀器系統。適用于學(xué)校、科研進一步提升、工廠等部門使用空間廣闊。 DMM-990高級正置金相顯微鏡,選用優(yōu)質(zhì)的光學(xué)元件改革創新,配有超大視場目鏡知識和技能、落射照明器、平場長工作距離明暗場物鏡新模式,是針對半導(dǎo)體晶圓檢測實現、太陽能硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)組織了、治金工業(yè)開發(fā)的服務體系,作為高級工業(yè)金相顯微鏡使用屪C遇?蛇M(jìn)行明暗場觀察分析、落射偏光、廣泛用于工廠全面闡釋、研究機構(gòu)非常激烈、高等院校對太陽能電池硅片、半導(dǎo)體晶圓檢測引人註目、電路基板領域、FPD、精密模具的檢測分析好宣講。
性能特點 
▲      配置大視野目鏡和長距平場消色差物鏡(無蓋玻片)註入新的動力,視場大而清晰。 
▲      粗微動同軸調(diào)焦機構(gòu),粗動松緊可調(diào)去完善,帶限位鎖緊裝置,微動格值:0.8μm長遠所需。
▲      配置大移動范圍栽物臺求索,移動范圍:8英寸*8英寸(204mm*204mm)。 
▲      三目鏡筒,可自由切換正常觀察與偏光觀察規模,明視場/穩定發展,可進(jìn)行99%透光攝影基石之一。
▲      6V30W鹵素?zé)簦炼瓤烧{(diào)服務品質。 
   DMM-990C電腦型三目正置
大平臺單晶硅缺陷分析儀金相顯微鏡是將精銳的光學(xué)顯微鏡技術(shù)的發生、的光電轉(zhuǎn)換技術(shù)、的計算機成像技術(shù)地結(jié)合在一起而開發(fā)研制成功的一項高科技產(chǎn)品影響。既可人工觀察金相圖像,又可以在數(shù)碼相機顯示器上很方便地適時觀察金相圖像新的動力,并可隨時捕捉記錄金相圖片,從而對金相圖譜進(jìn)行分析,評級等,還可以保存或打印出高像素金相照片。

太陽能光伏單晶硅片缺陷分析儀DJM-200C

(二)蔡康硅片缺陷分析儀DJM-200C性能特點和系統(tǒng)組成:

1. 蔡康單晶硅缺陷分析儀DJM-200C利用工業(yè)級彩色高速攝象器進(jìn)行圖像或者視頻采集發展契機,高倍蔡康光學(xué)單晶硅片顯微鏡放大成像廣泛關註,圖像快速顯示于計算機,直接實時觀察熔深焊接形貌發力,利用專用軟件進(jìn)行熔深測量處理優勢領先,形態(tài)統(tǒng)計分析,并打印出熔深分析報告共創美好。


 

型號

技術(shù)參數(shù)

目鏡

WF10X(Φ18mm)

物鏡

長距平場消色差物鏡(明視場)(無蓋玻片)PL 5X/0.12                 WD:18.3mm

長距平場消色差物鏡(明視場/暗視場)(無蓋玻片)PL L10X/0.25         WD:8.9mm

長距平場消色差物鏡(明視場/暗視場)(無蓋玻片)PL L20X/0.40         WD:8.7mm

長距平場消色差物鏡(明視場/暗視場)(無蓋玻片)PL L40X/0.60         WD:0.26mm

目鏡筒

三目鏡,傾斜30?

落射照明系統(tǒng)

6V 30W鹵素?zé)?/span>,亮度可調(diào)

落射照明器帶視場光欄推動並實現、孔徑光欄、起偏振片,(,藍(lán),)濾色片和磨砂玻璃

調(diào)焦機構(gòu)

載物臺升降覆蓋範圍,粗微動同軸調(diào)焦機構(gòu)優化程度,粗動松緊可調(diào),帶限位鎖緊裝置奮勇向前,微動格值:0.8μm

轉(zhuǎn)換器

四孔(外向式滾珠內(nèi)定位)

載物臺

三層機械移動式(尺寸:280mmX270mm,移動范圍:204mmX204mm)

2取得明顯成效、系統(tǒng)組成:


1.硅片缺陷分析儀DJM-200  

2.電腦適配鏡

3.數(shù)字彩色攝像機
4.單晶硅片分析測量系統(tǒng)
5.計算機(選購)




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