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日立 超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡 SU8600系列

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產(chǎn)品介紹 隨著快速數(shù)據(jù)采集和數(shù)據(jù)處理技術的發(fā)展,電子顯微鏡進入了一個不僅重視數(shù)據(jù)質量形式,而且重視其采集過程的時代置之不顧。SU8600系列秉承了Regulus8200系列的高質量圖像、大束流分析及長時間穩(wěn)定運行的冷場成像技術數字化,同時還大大提升了高通量方便、自動數(shù)據(jù)獲取能力。

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產(chǎn)品介紹:


隨著快速數(shù)據(jù)采集和數(shù)據(jù)處理技術的發(fā)展各領域,電子顯微鏡進入了一個不僅重視數(shù)據(jù)質量應用領域,而且重視其采集過程的時代。SU8600系列秉承了Regulus8200系列的高質量圖像進行培訓、大束流分析及長時間穩(wěn)定運行的冷場成像技術發展機遇,同時還大大提升了高通量、自動數(shù)據(jù)獲取能力法治力量。

* 設備照片包含選配項


產(chǎn)品特點:


超高分辨成像


日立的高亮度電子源可保證了即使在超低著陸電壓下全技術方案,也可獲得超高分辨的圖像。



0.8 kV電壓條件下觀察RHO型沸石的實例共享。左圖為顆粒整體的形貌,右圖為放大圖像信息化,顆粒表面細微的臺階結構清晰可見。低電壓觀察對于減少電子束損傷和獲取表面形狀信息較為有效全面闡釋。


高襯度的低加速電壓背散射圖像


3D NAND截面觀察;
在低加速電壓條件下非常激烈,背散射電子信號能夠明顯的顯示出氧化硅層和氮化硅層的襯度差別。



3D NAND截面觀察(加速電壓:1.5kV)


快速BSE圖像:新型閃爍體背散射電子探測器(OCD)*


由于使用了新型的OCD探測器,即使掃描時間不到1秒設備製造,也仍然可以觀察到Fin-FET清晰的深層結構圖像發展需要。



5納米制程SRAM的內(nèi)部結構觀察 (加速電壓:30kV,掃描時間<1秒)


的自動化功能*


EM Flow Creator 允許客戶創(chuàng)建連續(xù)圖像采集的自動化工作流程管理。EM Flow Creator將不同的SEM功能定義為圖形化的模塊顯示,如設置放大倍率、移動樣品位置效率和安、調(diào)節(jié)焦距和明暗對比度等設計能力。用戶可以通過簡單的鼠標拖拽,將這些模塊按邏輯順序組成一個工作程序深入開展。經(jīng)過調(diào)試和確認后更為一致,該程序便可以在每次調(diào)用時自動獲得高質量、重現(xiàn)性好的圖像數(shù)據(jù)技術的開發。



靈活的用戶界面


原生支持雙顯示器研究與應用,提供靈活、高效的操作空間更高效。6通道同時顯示與保存全面協議,實現(xiàn)快速的多信號觀測與采集。



1,2,4 或6通道信號可在同一個顯示器上同時顯示具體而言,可切換內(nèi)容包括SEM各探測器以及樣品室相機和導航相機工具。可以通過使用兩個顯示器來擴展工作空間喜愛,可定制的用戶界面以提高工作效率重要的角色。


產(chǎn)品規(guī)格:




機型SU8600系列
電子光學系統(tǒng)二次電子像分辨率0.6 nm@15 kV
0.7 nm@1 kV *
放大倍率20 to 2,000,000 x
電子槍冷場發(fā)射電子源範圍和領域,支持柔性閃爍功能提高,包含陽極烘烤系統(tǒng)。
加速電壓0.5 to 30 kV
著陸電壓 *0.01 to 20 kV
探測器(部分為選配項)上探測器(UD)
UD ExB能量過濾器形式,包含SE/BSE信號混合功能
下探測器(LD)
頂探測器(TD)
TD能量過濾器
鏡筒內(nèi)背散射電子探測器(IMD)
半導體式背散射電子探測器 (PD-BSED)
新型閃爍體式背散射電子探測器(OCD)
陰極熒光探測器(CLD)
掃描透射探測器(STEM Detector)
附件(部分為選配項)導航相機共創美好、樣品室相機推動並實現、X射線能譜儀(EDS)、背散射電子衍射探測器(EBSD)
軟件(部分為選配項)EM Flow Creater覆蓋範圍、HD Capture( 40,960×30,720 像素)
樣品臺馬達驅動軸5軸馬達驅動(X/Y/R/Z/T)
馬達驅動軸X:0~110 mm
Y:0~110 mm
Z:1.5~40 mm
T:-5~70°
R:360°
樣品室樣品尺寸直徑:150mm

* 減速模式下



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