PICOSUN™R-200標(biāo)準(zhǔn)型ALD系統(tǒng)是ALD科研 設(shè)備市場的。它已經(jīng)成為一些創(chuàng)新公司 和研究機構(gòu)的研發(fā)工具的積極性。
靈活的設(shè)計確保沉積高質(zhì)量的ALD薄膜綠色化發展，超靈活的系統(tǒng)配置也能滿足用戶未來的需求和應(yīng)用。的熱壁設(shè)計不久前、獨立的前驅(qū)體管 路和特殊的載氣設(shè)計用上了，使得無顆粒沉積廣泛應(yīng)用于平面晶圓提升行動、3D基片和所有納米尺度的 材料。即使在挑戰(zhàn)性的多孔材料關註、超高深 寬比和納米顆粒表面沉積研究進展， 系統(tǒng)都能實現(xiàn)的均勻性， 這些都?xì)w功于我們的技術(shù) Picoflow™連日來。Picosun™R-200標(biāo)準(zhǔn)型系統(tǒng)配備功 能強大和易于更換的液體快速融入、氣體和固體前驅(qū)體 源。系統(tǒng)可集成手套箱系統， 粉末反應(yīng)腔和各種在 線分析系統(tǒng)增強， 使您的研究變得高效和靈活。 即 使將來您改變研究領(lǐng)域交流等， 它仍然會是您幫手更加廣闊！
技術(shù)參數(shù)：
襯底尺寸和類型
? 50-200 mm/片
? 156 mm x 156 mm太陽能硅片
? 3D 復(fù)雜表面襯底
? 粉末與顆粒
? 小批量
? 多孔， 通孔數字化， 高深寬比（HAR）樣品 （可達(dá)1:2500）
工藝溫度
? 50 – 500°C
沉積材料
? Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN, 以及金屬 Pt 或者 Ir
基片加載
? 氣動升降方便，手動加載
? 預(yù)真空室安裝磁力操作機械手（Load lock）
前驅(qū)體
? 液態(tài)， 固態(tài)深刻內涵， 氣態(tài)傳遞， 臭氧源
? 4根獨立源管線， 最多加載6個前驅(qū)體源
選件
? PICOFLOW™擴散增強器深入闡釋， RGA相關性、N2發(fā)生器、尾氣處理器物聯與互聯、定制設(shè)計穩定，手套箱集成（用于惰性氣體下裝載）
