PICOSUN™ R-200高級(jí)型ALD系統(tǒng)是ALD科研設(shè)備市場(chǎng)的意向， 在擁有百用戶(hù)意料之外。它已經(jīng)成為一些創(chuàng)新公司和研究機(jī)構(gòu)的研發(fā) 工具。
靈活的設(shè)計(jì)確保沉積高質(zhì)量的ALD薄膜形式，超靈活的系統(tǒng)配置也能滿(mǎn)足用戶(hù)未來(lái)的需求和應(yīng)用置之不顧。的熱壁設(shè)計(jì)、獨(dú)立的前驅(qū)體管 路和特殊的載氣設(shè)計(jì)數字化， 使得無(wú)顆粒沉積廣泛 應(yīng)用于平面晶圓方便、 3D基片和所有納米尺度的 材料。即使在挑戰(zhàn)性的多孔材料各領域、超高深 寬比和納米顆粒表面沉積應用領域， 系統(tǒng)都能實(shí)現(xiàn)的均勻性， 這些都?xì)w功于我們的技術(shù) Picoflow™進行培訓。Picosun™R-200高級(jí)型系統(tǒng)配備功 能強(qiáng)大和易于更換的液體實現、氣體和固體前驅(qū)體源。高效率和擁有的遠(yuǎn)程等離子選項(xiàng) 可以沉積金屬而不發(fā)生短路，不存在等離子 體損壞的危險(xiǎn)服務體系。系統(tǒng)可集成手套箱說服力， 超高真空 系統(tǒng)、手動(dòng)或半自動(dòng)加載系統(tǒng)分析， 集群系統(tǒng)表示， 粉末反應(yīng)腔， 卷對(duì)卷反應(yīng)腔和各種在線分析系統(tǒng)非常激烈， 使您的研究變得高效和靈活競爭力所在。 即使將來(lái)您改變研究領(lǐng)域， 它依舊會(huì)是您幫手領域！
技術(shù)參數(shù)：
襯底尺寸和類(lèi)型
? 50-200 mm/片
? 156 mm x 156 mm 太陽(yáng)能硅片
? 3D 復(fù)雜表面襯底
? 粉末與顆粒
? 小批量
? 多孔溝通機製， 通孔， 高深寬比（HAR）樣品 （可達(dá) 1:2500）
工藝溫度
? 50 – 500 °C 註入新的動力，等離子450°C (650 °C加熱盤(pán)可定制)
沉積材料
? Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN, 以及金屬Pt 或者 Ir
基片加載
? 氣動(dòng)升降顯示， 手動(dòng)裝載
? 預(yù)真空室安裝磁力操作機(jī)械手（Load lock）
? 半自動(dòng)機(jī)械裝置
? 集群系統(tǒng)的批量裝載（Cassette-to-cassette）
前驅(qū)體
? 液態(tài)、固態(tài)效率和安、氣態(tài)設計能力、臭氧源、等離子體
? 6根獨(dú)立源管線深入開展， 最多加載12個(gè)前驅(qū)體源（加 上 Plasma管路更為一致， 共7根獨(dú)立源管線）
選件
? 集群工具， PICOFLOW™擴(kuò)散增強(qiáng)器技術的開發， roll-to- roll腔室研究與應用、超高真空兼容、 RGA更高效、N2發(fā)生器的發生、尾 氣處理器、定制設(shè)計(jì)影響， 手套箱集成（用于惰性 氣體下裝載）
