金屬材料領(lǐng)域的全譜直讀光譜儀
檢測(cè)基體：鐵基重要作用、銅基、鋁基習慣、鎳基充足、鎂基、鈦基的積極性、鋅基綠色化發展、鉛基、錫基不久前、銀基
全新立式全譜光譜采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)用上了，采用全數(shù)字技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術(shù)能力建設，與國(guó)際光譜儀技術(shù)同步關註，采用真空光學(xué)室設(shè)計(jì)及全數(shù)字激發(fā)光源、ＣＣＤ檢測(cè)器無障礙，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)連日來，使儀器具有高的性能、低的檢出線認為、長(zhǎng)期的穩(wěn)定性和重復(fù)性系統。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控文化價值、材料牌號(hào)識(shí)別形式、材料研究和開發(fā)的主要設(shè)備之一置之不顧。
主要技術(shù)參數(shù)：光學(xué)系統(tǒng)：帕型）-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)不斷完善；
波長(zhǎng)范圍：120nm~589nm
焦距：400mm
探測(cè)器：高性能CCD陣列
光源類型：數(shù)字光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）
放電頻率：100-1000Hz
放電電流：400A
工作電源：220VAC 50/60Hz
儀器尺寸：650*860*1200
儀器重量：約235kg（不含真空系統(tǒng)）
檢測(cè)時(shí)間：依據(jù)樣品類型而定方便，一般25S左右
電極：鎢材噴射電
光學(xué)恒溫：34℃± 0.3℃
氬氣要求：99.999％
氬氣進(jìn)口壓力：0.5MPa
氬氣流量：激發(fā)流量約3.5L/min
工作溫度：10℃～35℃
工作濕度：20％～85％
分析間隙：真空軟件自動(dòng)控制基礎上、監(jiān)測(cè)
產(chǎn)品特色
優(yōu)化設(shè)計(jì)的真空光學(xué)系統(tǒng)
１各領域、整體光學(xué)室裝置、帕邢-龍格結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)保持競爭優勢，所有譜線集成在羅欄園上進行培訓。
２、直射式光學(xué)技術(shù)及透鏡ＭｇＦ２材料完成的事情，保證Ｃ物聯與互聯、Ｓ、Ｐ改造層面、Ｎ紫外波長(zhǎng)的能量供給。
全數(shù)字激發(fā)光源
全數(shù)字、高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）經驗分享，不同樣品設(shè)置不同的激發(fā)參數(shù)解決方案，提高樣品的測(cè)量精度和相似性，提高樣品激發(fā)速度有力扭轉，提高火花穩(wěn)定性上高質量，使樣品有更好的重現(xiàn)性。
功能性設(shè)計(jì)的激發(fā)裝置
１廣度和深度、集成氣路深入交流、噴射電極技術(shù)，開放式銅火花臺(tái)加強宣傳，不僅保證樣品測(cè)量精度還能購(gòu)測(cè)量各種復(fù)雜形狀的樣品（含線材）雙向互動。
２、 單板式透鏡裝置設(shè)計(jì)設計能力，一般人員都能方便對(duì)激發(fā)臺(tái)進(jìn)行進(jìn)行維護(hù)和透鏡的清洗品牌。
高集成、高速度讀出系統(tǒng)
１更為一致、高性能CCD固態(tài)檢測(cè)技術(shù)等形式，波段內(nèi)譜線全譜接收。
２研究與應用、FPGA及高速數(shù)據(jù)通訊技術(shù)飛躍，數(shù)據(jù)讀入功能強(qiáng)大，檢測(cè)數(shù)據(jù)整體讀入時(shí)間短全面協議。
直觀重要部署、易操作的分析軟件
１、基于WINDOWS系統(tǒng)的多國(guó)語言的ＣＣＤ全譜分析軟件的管理和控制整個(gè)測(cè)量過程工具，為用戶提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力和測(cè)試報(bào)告輸出能力智慧與合力。
２、儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及的解決方案。
３開放要求、儀器實(shí)現(xiàn)全譜分析向好態勢，智能扣干擾，扣暗電流記得牢、背景和噪聲的算法註入了新的力量，提高了儀器的分析能力。
