金相磨拋機

金相樣品的制備是通過切割機、鑲嵌機和金相磨拋機來完成的,金相樣品的最終質(zhì)量由金相磨拋機測定具有重要意義。拋光是金相樣品制備過程中的重要部分進一步。拋光是為了去除因磨削樣品而產(chǎn)生的磨損痕跡和變形層,并使之成為鏡面光滑的最終過程。拋光方法包括機械拋光,電解拋光,化學(xué)拋光和復(fù)合拋光強大的功能。金相磨拋機的使用是目前使用泛的拋光方法實際需求。其正確的工藝和操作方法是在獲得高質(zhì)量樣品的條件下以及其他條件(例如保留邊緣和石墨以及夾雜物的保留)的條件下獲得的拋光速率。選擇可靠的金相磨拋機可以提高樣品制備的效率和質(zhì)量,減少樣品的浪費率,從而降低成本,提高經(jīng)濟效益并實現(xiàn)樣品質(zhì)量的一致高度性優勢。

金相磨拋機運行的關(guān)鍵是設(shè)法獲得的拋光速度,以盡快去除拋光引起的損壞層善謀新篇。同時,拋光損傷層將不會影響最終觀察到的組織,即不會造成假組織,這兩個要求是矛盾的。前者需要使用粗磨料以確保更大的拋光速率以去除拋光損傷層,但拋光損傷層更深;因此,需要使用粗磨料便利性。后者需要使用材料來使拋光的損傷層變淺,但是拋光速率低方法。解決這一矛盾的方法是將拋光分為兩個階段。首先,粗拋光是去除拋光損傷層提供有力支撐。此階段應(yīng)具有的拋光速度切實把製度。次要考慮的是由粗糙拋光引起的表面損壞,但也應(yīng)盡可能小。其次,精細(xì)拋光(或最終拋光)是為了消除由粗糙拋光引起的表面損傷并使拋光損傷最小化最深厚的底氣。

金相磨拋機種類繁多,主要由電機驅(qū)動的一組拋光盤組成協同控製。拋光光盤具有單個或多個光盤。通常使用具有兩個拋光板的雙頭拋光機。拋光盤由直徑約200mm的鑄銅或鋁制成利用好。拋光盤安裝在主軸上(水平和垂直),并在軸承支撐下水平旋轉(zhuǎn)深入各系統。其轉(zhuǎn)速為約600-1600r / min。拋光機配有換檔裝置,可以根據(jù)需要將速度調(diào)節(jié)到200-600 r / min系列。

近年來,隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展,中國已生產(chǎn)出多種類型的金相磨拋機作用。其中,有使研磨面以更復(fù)雜的軌跡運動的金相磨拋機,有以更簡單的圓形軌跡運動的金相磨拋機。根據(jù)該結(jié)構(gòu),一些樣品可以同時自動拋光,也有一些是只能一次拋光一個樣品統籌推進。也有專門設(shè)計和制造的金相磨拋機,可以安裝在普通金相磨拋機上的自動拋光配件方案。