技術(shù)參數(shù)：l 自動(dòng)的換氣與泄氣功能帶來全新智能，可以得到一致的膜厚，和的導(dǎo)電噴鍍效果新產品。l 通過(guò)高效低壓直流磁控頭進(jìn)行冷態(tài)精細(xì)的噴鍍過(guò)程去完善，避免樣品表面受損。

技術(shù)參數(shù)：

l 自動(dòng)的換氣與泄氣功能長遠所需，可以得到一致的膜厚求索，和的導(dǎo)電噴鍍效果。

l 通過(guò)高效低壓直流磁控頭進(jìn)行冷態(tài)精細(xì)的噴鍍過(guò)程生產創效，避免樣品表面受損結構。

l 操作容易快捷，可全自動(dòng)或手動(dòng)進(jìn)行噴鍍操作優化上下，控制的參數(shù)包括自動(dòng)放氣以及氬氣換氣控制能力建設。

l 在自動(dòng)模式下，可通過(guò)兩種方式進(jìn)行控制鍍膜過(guò)程生產體系》?？赏ㄟ^(guò)數(shù)字顯示器控制得到可重現(xiàn)的噴鍍效果很重要，

l 數(shù)字化的噴鍍電流控制不受樣品室內(nèi)氬氣壓力影響，可得到一致的鍍膜速率和的鍍膜效果指導。

l 可使用多種金屬靶材：Au廣泛認同， Au/Pd,，Pt,流動性，Pt/Pd（Au靶為標(biāo)配）鍛造，靶材更換快速方便。

l 樣品室大谐掷m創新。?/span>直徑120mm x 120mm 高 (4.75 x 4.75")

l 樣品臺(tái)：可以裝載12個(gè)SEM樣品座改善，高度可調(diào)范圍為50mm

l 濺射控制：微處理器控制，安全互鎖協調機製，可調(diào)信息化，電流40mA，程序化數(shù)字控制

l 濺射頭：低電壓平面磁控管實踐者，靶材更換快速取得明顯成效，環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩

l 模擬計(jì)量：真空： Atm - 0.001mbar，電流：0-50mA

l 控制方法: 自動(dòng)氣體換氣和泄氣功能數據，自動(dòng)處理排序創新的技術，帶有“暫停”控制的數(shù)字定時(shí)器（5－300s）改進措施，自動(dòng)放氣.整個(gè)操作亦可全手動(dòng)控制就此掀開。

l 真空泵：，抽氣速率: 6.0 m3/小時(shí) 今年，真空度到 0.1mb所需時(shí)間30秒.

l 桌上系統(tǒng): 真空泵可置于抗震臺(tái)上穩步前行，全金屬集成耦合系統(tǒng)

l 保修期：免費(fèi)保修一年