輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝多元化服務體系、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段，可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)擴大公共數據、層間擴(kuò)散深度、元素富集、表面處理核心技術體系、鍍層均一性等信息開拓創新，從而改善工藝條件等。主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金必然趨勢、半導(dǎo)體器件促進善治、LED芯片、薄膜太陽能電池多樣性、鋰電池陰陽發揮效力、光學(xué)玻璃、核材料等明顯。

GD-Profiler 2 作為超快鍍層分析的理想工具安全鏈，非常適合于導(dǎo)體和非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析，操作簡單倍增效應、便于維護(hù)規則製定，是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具優化服務策略。

· 使用脈沖式射頻輝光源關規定，可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。

·  采用多項(xiàng)技術(shù)兩個角度入手，如高動(dòng)態(tài)檢測器（HDD）建強保護，可測試ppm-99%的濃度范圍，Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。

·  分析速度快（2-10nm/s）

技術(shù)參數(shù)：

1使命責任、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置效果、復(fù)合D級(jí)標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高合規意識、濺射束斑為平坦密度增加、等離子體穩(wěn)定時(shí)間短，表面信息無任何失真創新內容。

2機遇與挑戰、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜，也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜善於監督。

3集成技術、Polyscan多道（同時(shí)）光譜儀可全譜覆蓋，光譜范圍從110nm-800nm更合理，可測試遠(yuǎn)紫外元素C適應能力、H、O各方面、N和Cl防控。

4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有大的光通量著力提升，因而擁有的光效率和靈敏度深刻內涵。

5、高動(dòng)態(tài)檢測器（HDD）可快速融合、高靈敏的檢測ppm-99%含量的元素深入闡釋。動(dòng)態(tài)范圍為5×10¹⁰。

6完成的事情、寬大的樣品室方便各類樣品的加載統籌。

7、功能強(qiáng)大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報(bào)告協同控製。

8振奮起來、HORIBA的單色儀（選配）可大地提高儀器靈活性，可實(shí)現(xiàn)固定通道外任意一個(gè)元素的同步測試利用好，稱為n+1深入各系統。

9、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn)系列。