? 關(guān)于RITE
Rigaku Corporation于 2008 年在捷克首都布拉格成立了Rigaku Innovative Technologies Europe s.r.o. (以下簡稱“RITE”)全面闡釋，配有多個專業(yè)的X射線實驗室，作為日本理學(xué)在歐洲的 X 射線光學(xué)鏡片設(shè)計競爭力所在、開發(fā)和制造中心引人註目。
隨著EUV/XUV產(chǎn)業(yè)發(fā)展如火如荼領域，X射線各領(lǐng)域的研究也不斷深入，RITE專為這兩大類應(yīng)用提供性能*的光學(xué)元件好宣講。憑借自身在X射線註入新的動力、極紫外光學(xué)領(lǐng)域多年的積累，除了承擔母公司理學(xué)在EUV/XUV、軟X射線雙重提升、硬X射線等設(shè)備的研發(fā) (R&D) 任務(wù)以外，RITE秉承著開放合作的理念事關全面，也直接向的工業(yè)客戶表現明顯更佳、實驗室科研用戶提供標準或定制型EUV/X-RAY光學(xué)鏡片和高分辨間接X射線探測器等。
| RITE實驗室 | EUV Replicated Optic |
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捷克RITE基于其*的復(fù)制技術(shù) (Replication technology)規模，聚焦“超光滑Super Smooth”掠入射反射光學(xué)器件的研發(fā)設(shè)計穩定發展，定制開發(fā)速度快，質(zhì)量高聯動，工藝水平增持能力。擁有技術(shù)的工藝，能夠商業(yè)化生產(chǎn)直徑達300mm行業內卷、段長達250mm追求卓越，組合拼接后可達1000mm的光學(xué)器件。通過復(fù)制技術(shù)制作的光學(xué)元件具有低重量參與能力、高表面精度(低斜率誤差)和低表面粗糙度等特點合理需求。全反射鏡的另一個有趣的特性是使用各種金屬層作為涂層，的材料有Ni促進進步、Au發力、Mo和Ru。
| 平均粗糙度 Ra (nm) | 均方根 RMS (nm) |
10 μm × 10 μm | 0.72 | 0.91 |
1 μm × 1 μm | 0.27 | 0.34 |
Ru鍍層的微觀粗糙度:
使用Taylor – Hobson輪廓儀測量,拋光前測得RMS (Δr) = 1.14 μm迎來新的篇章，拋光后測得RMS (Δr) = 0.109 μm
對于光學(xué)復(fù)制技術(shù)的擴展共創美好，RITE可以設(shè)計和生產(chǎn)多箔光學(xué)鏡片(MFO)。
多箔光學(xué)鏡(Multi-Foil Optics, MFO)非常適合軟X射線薄弱點、EUV波段和大視場的應(yīng)用覆蓋範圍，由兩組相互垂直的極薄反射鏡組成，光子通過掠入射角進行反射積極性^勇向前？筛鶕?jù)客戶要求快速定制開發(fā)多種形狀1D或2D的MFO（如龍蝦眼，Kirkptrick-Baez組等）實施體系。
復(fù)制鏡典型參數(shù)：
? 光譜范圍: EUV (60 – 200 eV)組建；軟X射線（200-2000eV）；硬X射線 (2 – 10 KeV)
? 鏡片面形: 橢球鏡（點對點聚焦）發揮，拋物面鏡（平行光束）顯著，也可根據(jù)需求定制其他面形
? 光學(xué)面材料: Au, Ni, Ru等
? R ≥50%
? 典型表層粗糙度: Ra≈1- 2 nm
? 典型尺寸: 直徑D = 5 – 250 mm快速增長；長度L=10-140mm
成像幾何
加工鏡片示例：
性能展示
MFO多箔光學(xué)鏡 (龍蝦眼，KB鏡組) -EUV/SXR大視場
大視場：max ±60° 襯底：玻璃或硅 開口孔徑：3x3 mm - 300x300 mm 箔層厚度：30μm – 1 mm 表層材料: Au, Ni, Mo, Pt, W, ..
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加工鏡片示例
性能展示：
MFO橢圓 KB系統(tǒng) |
能量范圍: 80 – 120 eV 焦長: 440 mm 倍率: ~ 1:1 視場: 20° 聚焦光斑尺寸: ~ 0.5 – 1.0 mm 外形尺寸: 100 x 100x 100 mm 口徑: 75 x 75 mm 金鍍膜鏡片 鏡片間距： 1 到 5 mm 鏡片間自由空間 (前視): 56%
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焦點細節(jié) |
激光驅(qū)動氙氣和氪氣極紫外輻射的聚焦光斑強度分布占。 | 
幾何構(gòu)型 |
龍蝦眼鏡片 |
? 能量范圍5 - 10 keV ? 焦長: 1 000 - 1 200 mm ? 倍率: ~ 1:1 ? 視場: 2° ?聚焦光斑尺寸: ~ 0.5 mm ?外形尺寸: 30 x 30 x 65 mm ?口徑: 18 x 18 mm ? 鍍金鏡片 ? 鏡片間距0.3 mm ?鏡片間自由空間 (前視): 56% | 
聚焦細節(jié)(FWHM = 19 arcmin)高質量，光源80µm， 8kev, MEDIPIX2探測器(CTU)激發創作。 |
