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公司介紹： NTT-AT有著多年的X射線提供了有力支撐、極紫外光學(xué)配件的研發(fā)與銷售經(jīng)驗。在范圍內(nèi)的方法，通過與眾多來自同步輻射科學(xué)實事求是，阿秒科學(xué)，高強度物理學(xué)等領(lǐng)域的科學(xué)研究者開展緊密合作落到實處，積累了大量的設(shè)計與制造技術(shù)服務水平，其產(chǎn)品在業(yè)內(nèi)享有很高的評價。NTT-AT提供的菲涅爾波帶片有著高分辨率技術創新，高聚光效率等特點處理方法，適合被各種輻射光設(shè)施使用。另外持續向好，分辨率測試卡被當作業(yè)界的標準習慣。不只是學(xué)術(shù)研究充足，在X射線的檢查裝置開發(fā)現(xiàn)場也被廣泛使用。XUV鏡片的積極性，XUV濾波片不僅對阿秒科學(xué)有著幫助綠色化發展，對下一代的光刻研究也有這重要作用。NTT-AT將在XUV,EUV, X射線領(lǐng)域給予客戶在研發(fā)上的幫助不久前。 產(chǎn)品介紹： 因為NTT-AT公司的多層反射鏡質(zhì)量高用上了，所以一直被世界上的研究機構(gòu)所選用。本公司定制多層材料和結(jié)構(gòu)能力建設，滿足用戶的基板關註、峰值波長、帶寬和分散體等詳細規(guī)格無障礙。還應(yīng)對耐高溫多層反射鏡連日來。利用同步加速器設(shè)備的反射率評估服務(wù)也可作為選項提供。 XUV多層反射鏡（EUV多層反射鏡） 基板形狀：平面發揮重要帶動作用、凸形意向、凹形、拋物面文化價值、超環(huán)面形式、橢圓面 基板尺寸：φ3毫米至φ300毫米（標準值為1英寸） 產(chǎn)品示例 Mo/Si多層反射鏡具有接近13納米（90電子伏）波長的高反射率。NTT-AT公司的Mo/Si多層反射鏡具有高達70％的正入射反射率融合。 Φ10毫米平面反射鏡 用于泵浦探測試驗的多層反射鏡 測量寬帶反射鏡完成的事情、 EUV寬帶橢圓面反射鏡 No Design name AOI pol. peak energy reflectivit bandwidth (FWHM) 1 HR-98-3.4 5 deg s 98 eV 12.7 nm 67.7% 3.4 eV (0.4 nm) 2 HR-95-3.8 5 deg s 95 eV 13.1 nm 67.7% 3.8 eV (0.5 nm) 3 HR-90-3.8 5 deg s 90 eV 13.8 nm 68.0% 3.8 eV (0.6 nm) 4 HR-85-4.0 5 deg s 85 eV 14.6 nm 66.8% 4.0 eV (0.7 nm) 5 HR-80-4.0 5 deg s 80 eV 15.5 nm 63.3% 4.0 eV (0.8 nm) 6 HR-75-4.6 5 deg s 75 eV 16.5 nm 54.5% 4.6 eV (1.0 nm) 7 HR-70-5.0 5 deg s 70 eV 17.7 nm 47.5% 5 eV (1.2 nm) 8 HR-70-2.6 5 deg s 70 eV 17.7 nm 52.1% 2.6 eV (0.7 nm) 9 HR-65-2.6 5 deg s 65 eV 19.1 nm 48.5% 2.6 eV (0.8 nm) 10 HR-60-2.8 5 deg s 60 eV 20.7 nm 43.7% 2.8 eV (1.0 nm) 11 HR-55-3.6 5 deg s 55 eV 22.5 nm 37.3% 3.6 eV (1.5 nm) 12 HR-50-4.2 5 deg s 50 eV 24.8 nm 30.9% 4.2 eV (2.1 nm) 13 HR-48-2.0 5 deg s 48 eV 25.8 nm 50.6% 2.0 eV (1.1 nm) 14 HR-45-2.4 5 deg s 45 eV 27.6 nm 48.4% 2.4 eV (1.4 nm) 15 HR-40-2.6 5 deg s 40 eV 31.0 nm 44.8% 2.6 eV (2.0 nm) 16 HR-35-2.6 5 deg s 35 eV 35.4 nm 43.1% 2.6 eV (2.6 nm) 17 HR-30-3.0 5 deg s 30 eV 41.3 nm 41.2% 3.0 eV (4.1 nm) 18 HR45-90-6.0 45 deg s 90 eV 13.1 nm 66.1% 6.0 eV (0.9 nm) 19 HR45-80-7.4 45 deg s 80 eV 15.5 nm 60.0% 7.4 eV (1.4 nm) 20 HR45-70-36.0 45 deg s 70 eV 17.7 nm 49.0% 3.6 eV (0.9 nm) 21 HR45-60-5.4 45 deg s 60 eV 20.7 nm 40.8% 5.4 eV (1.8 nm) 22 HR45-50-10.0 45 deg s 50 eV 24.8 nm 30.0% 10.0 eV (5.1 nm) 23 HR45-40-5.0 45 deg s 40 eV 31.0 nm 44.4% 5.0 eV (3.8 nm) 24 HR45-30-7.0 45 deg s 30 eV 41.3 nm 42.5% 7.0 eV (9.3 nm) 天文學(xué) XUV光電子光譜 XUV顯微 EUV光刻 等離子體物理 阿秒科學(xué)
基板材料：石英、硅不斷完善、zero dewer等
多層膜材料：Mo/Si（50eV至100eV）數字化、Ru/Si（50eV至100eV）、Zr/Al（50eV至70eV）基礎上、SiC/Mg（25eV至50eV）深刻內涵、Cr/C（至300eV）等
NTT-AT公司的XUV反射鏡的材料深入闡釋、膜結(jié)構(gòu)和基板形狀可以定制以滿足用戶有關(guān)中心波長和光學(xué)裝置的需求。
測量的Mo/Si多層的反射率
（正入射角：2度）
窄帶反射鏡（波長：30納米）的反射率
（Φ100毫米zero dewer）
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