納米壓印技術突破了傳統(tǒng)光刻在特征尺寸減小過程中的難題，具有分辨率高強化意識、低成本長期間、高產(chǎn)率的特點。自1995年提出以來現場，納米壓印已經(jīng)經(jīng)過了14年的發(fā)展高端化，演變出了多種壓印技術，廣泛應用于半導體制造我有所應、mems用上了、生物芯片、生物醫(yī)學等領域能力建設，被譽為改變人類的技術之一。
NIL壓印機的基本思想是通過模版研究進展，將圖形轉移到相應的襯底上無障礙，轉移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜，通過熱壓或者輻照等方法使其結構硬化從而保留下轉移的圖形快速融入。整個過程包括壓印和圖形轉移兩個過程認為。根據(jù)壓印方法的不同，NIL主要可分為熱塑（Hot embossing）增強、紫外固化UV和微接觸（Micro contact printing重要意義， uCP）三種光刻技術。

二更加廣闊、 功能

l 主要功能

納米壓印機的主要功能是將圖形轉移到相應的襯底上規劃，轉移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜，通過熱壓或者輻照等方法使其結構硬化從而保留下轉移的圖形可以使用。壓印技術主要分為以下兩種：

熱壓：首先在襯底上涂上一層薄層熱塑形高分子材料（如PMMA）進入當下。升溫并達到此熱塑性材料的玻璃化溫度Tg（Glass transistion temperature）之上。熱塑性材料在高彈態(tài)下稍有不慎，將具有納米尺度的模具壓在上面重要作用，并施加適當?shù)膲毫Γ瑹崴苄圆牧蠒畛淠＞咧械目涨蛔顬轱@著，模壓過程結束后尤為突出，溫度降低使熱塑性材料固化，從而得到與模具的重合的圖形環境。隨后移去模具空間載體，并進行各相異性刻蝕去除殘留的聚合物。接下來進行圖形轉移優勢與挑戰。圖形轉移可以采用刻蝕或者剝離的方法經驗分享〗鉀Q方案？涛g技術以熱塑性材料為掩膜，對其下面的襯底進行各向異性刻蝕有力扭轉，從而得到相應的圖形上高質量。剝離工藝先在表面鍍一層金屬，然后用有機溶劑溶解掉聚合物廣度和深度，隨之熱塑性材料上的金屬也將被剝離深入交流，從而在襯底上有金屬作為掩膜，隨后再進行刻蝕得到圖形加強宣傳。

紫外壓优_上與臺下。?/span>為了改善熱壓印中熱變形的缺點，特克薩斯大學的C. G. willson和S. v. Sreenivasan開發(fā)出步進-閃光壓蛹夹g發展。⊿tep- Flash Imprint Lithography）集聚效應，這種工藝中采用對紫外透明的石英玻璃（硬模）或PDMS（軟模），光阻膠采用低粘度重要手段，光固化的單體溶液互動講。先將低粘度的單體溶液滴在要壓印的襯底上，結合微電子工藝像一棵樹，薄膜的淀積可以采用旋膠覆蓋的方法過程中，用很低的壓力將模版壓到晶圓上，使液態(tài)分散開并填充模版中的空腔能運用。透過模具的紫外曝光促使壓印區(qū)域的聚合物發(fā)生聚合和固化成型達到。最后刻蝕殘留層和進行圖形轉移，得到高深寬比的結構不可缺少。最后的脫模和圖形轉移過程同熱壓工藝類似蓬勃發展。

技術特點

★主機包含：真空系統(tǒng)，溫度控制系統(tǒng)醒悟，壓力控制系統(tǒng)數據顯示，水冷系統(tǒng)，PLC 控

制系統(tǒng)也逐步提升，軟件操作界面記得牢，紫外光源，單面電磁加熱系統(tǒng)

設備壓印尺寸：4 英寸重要的作用。

設備可以實現(xiàn)熱壓印更多可能性、紫外曝光壓印

★壓力：8bar（空壓機），20bar（外接超凈室氣源）

溫度范圍：從室溫到 250 攝氏度足夠的實力。

紫外光源類型：高壓汞燈：功率：400W緊迫性，主波長：365nm。

★設備真空度：10 帕更適合。

★設備隨機可以根據(jù)科研需求提供全系列的納米壓印膠高效，包括：

熱壓膠溝通協調、紫外光固化膠

深刻蝕型壓印膠、舉離型（Lift-Off）壓印膠

快速模板制作材料體系、各類模板防沾劑保障性、襯底增粘劑等

★隨設備隨機可以根據(jù)科研需求提供定制納米壓印模板，包括：周期 400nm的 4英寸點陣模板鎳模板 SFP® & Hybrid Mold®軟模板

支持 20nm 分辨率及曲面壓印責任製，并提供文獻工藝支持十分落實，

★支持自動脫模新產品，電磁加熱功能

國內外大于 10 個客戶

★工藝包括：

納米壓印膠旋涂工藝支持

納米壓印模板防粘工藝支持自主研發，避免脫模粘膠影響

納米壓印機參數(shù)調節(jié)

軟模板工藝，包括 PDMS 模板勃勃生機、SFP 以及 Hybrid Mold 工藝

ICP 刻蝕工藝

柔性聚合物襯底壓印工藝關規定，Nickel Template 金屬鎳模板熱壓 PET發展基礎、PMMA 等

舉離（Lift-off）工藝支持，加工金屬結構

納米壓印表征技術

更新壓印工藝研發(fā)指導建強保護，文獻支持

技術能力

該設備的發(fā)明人2001年至 2003 年顯示，在納米壓印技術發(fā)明人、 美國普林斯頓大學 StephenY.Chou 教授的納米結構實驗室作為研究助理進行了為期 3 年的研究工作真正做到，發(fā)展了紫外光固化納米壓印工藝與材料，對納米壓印技術的發(fā)展做出了重要的貢獻創新延展。2004 年加入材料科學與工程系后繼續(xù)圍繞納米微加工技術與納米壓印技術開展研究工作調整推進，研發(fā)了數(shù)種新型納米壓印材料，發(fā)展了新型高分子壓印模板機製性梗阻，提出了曲面納 米壓印技術機製；利用 863 課題“紫外光固化和熱壓兩用納米壓印設備的研制與應用”項目的支持，研制成功具有紫外光固化和熱壓功能兩用納米壓印設備集成應用，現(xiàn)已成為產(chǎn)品探討，并被南京大學、北京航空航天大學高效流通、國防科技大學調解製度、黑龍江大學、中科院深圳研究院等多家高校和科研機構所采用功能，形成了具有自主知識產(chǎn)權的納米壓印核心技術應用的因素之一，申請和獲得了多項中國專用與美國專用，技術水準與當前國際該領域水平同步預期。