納米壓印技術(shù)突破了傳統(tǒng)光刻在特征尺寸減小過程中的難題，具有分辨率高導向作用、低成本方案、高產(chǎn)率的特點(diǎn)。自1995年提出以來十大行動，納米壓印已經(jīng)經(jīng)過了14年的發(fā)展左右，演變出了多種壓印技術(shù)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造綜合措施、mems可靠保障、生物芯片、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域現場，被譽(yù)為改變?nèi)祟惖募夹g(shù)之一高端化。
NIL壓印機(jī)的基本思想是通過模版，將圖形轉(zhuǎn)移到相應(yīng)的襯底上不久前，轉(zhuǎn)移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜用上了，通過熱壓或者輻照等方法使其結(jié)構(gòu)硬化從而保留下轉(zhuǎn)移的圖形提升行動。整個過程包括壓印和圖形轉(zhuǎn)移兩個過程能力建設。根據(jù)壓印方法的不同，NIL主要可分為熱塑（Hot embossing）研究進展、紫外固化UV和微接觸（Micro contact printing無障礙， uCP）三種光刻技術(shù)。

二快速融入、 功能

l 主要功能

納米壓印機(jī)的主要功能是將圖形轉(zhuǎn)移到相應(yīng)的襯底上認為，轉(zhuǎn)移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜，通過熱壓或者輻照等方法使其結(jié)構(gòu)硬化從而保留下轉(zhuǎn)移的圖形增強。壓印技術(shù)主要分為以下兩種：

熱壓：首先在襯底上涂上一層薄層熱塑形高分子材料（如PMMA）重要意義。升溫并達(dá)到此熱塑性材料的玻璃化溫度Tg（Glass transistion temperature）之上。熱塑性材料在高彈態(tài)下更加廣闊，將具有納米尺度的模具壓在上面規劃，并施加適當(dāng)?shù)膲毫μ岣?，熱塑性材料會填充模具中的空腔，模壓過程結(jié)束后進入當下，溫度降低使熱塑性材料固化紮實，從而得到與模具的重合的圖形。隨后移去模具新體系，并進(jìn)行各相異性刻蝕去除殘留的聚合物投入力度。接下來進(jìn)行圖形轉(zhuǎn)移。圖形轉(zhuǎn)移可以采用刻蝕或者剝離的方法不難發現∝暙I法治？涛g技術(shù)以熱塑性材料為掩膜，對其下面的襯底進(jìn)行各向異性刻蝕發展需要，從而得到相應(yīng)的圖形共享。剝離工藝先在表面鍍一層金屬，然后用有機(jī)溶劑溶解掉聚合物方式之一，隨之熱塑性材料上的金屬也將被剝離生動，從而在襯底上有金屬作為掩膜，隨后再進(jìn)行刻蝕得到圖形有力扭轉。

紫外壓由细哔|量。?/span>為了改善熱壓印中熱變形的缺點(diǎn)，特克薩斯大學(xué)的C. G. willson和S. v. Sreenivasan開發(fā)出步進(jìn)-閃光壓訌V度和深度。⊿tep- Flash Imprint Lithography）深入交流，這種工藝中采用對紫外透明的石英玻璃（硬模）或PDMS（軟模），光阻膠采用低粘度加強宣傳，光固化的單體溶液臺上與臺下。先將低粘度的單體溶液滴在要壓印的襯底上，結(jié)合微電子工藝技術發展，薄膜的淀積可以采用旋膠覆蓋的方法集聚效應，用很低的壓力將模版壓到晶圓上，使液態(tài)分散開并填充模版中的空腔重要手段。透過模具的紫外曝光促使壓印區(qū)域的聚合物發(fā)生聚合和固化成型互動講。后刻蝕殘留層和進(jìn)行圖形轉(zhuǎn)移，得到高深寬比的結(jié)構(gòu)像一棵樹。后的脫模和圖形轉(zhuǎn)移過程同熱壓工藝類似過程中。

技術(shù)特點(diǎn)

★主機(jī)包含：真空系統(tǒng)，溫度控制系統(tǒng)能運用，壓力控制系統(tǒng)達到，水冷系統(tǒng)，PLC 控

制系統(tǒng)不可缺少，軟件操作界面蓬勃發展，紫外光源喜愛，單面電磁加熱系統(tǒng)

設(shè)備大壓印尺寸：4 英寸。

設(shè)備可以實(shí)現(xiàn)熱壓印開放要求、紫外曝光壓印

★大壓力：8bar（空壓機(jī)）向好態勢，20bar（外接超凈室氣源）

溫度范圍：從室溫到 250 攝氏度。

紫外光源類型：高壓汞燈：功率：400W服務機製，主波長：365nm貢獻力量。

★設(shè)備真空度：10 帕。

★設(shè)備隨機(jī)可以根據(jù)科研需求提供全系列的納米壓印膠大幅拓展，包括：

熱壓膠發行速度、紫外光固化膠

深刻蝕型壓印膠、舉離型（Lift-Off）壓印膠

快速模板制作材料與時俱進、各類模板防沾劑結構、襯底增粘劑等

★隨設(shè)備隨機(jī)可以根據(jù)科研需求提供定制納米壓印模板，包括：周期 400nm的 4英寸點(diǎn)陣模板鎳模板 SFP® & Hybrid Mold®軟模板

支持 20nm 分辨率及曲面壓印高效，并提供文獻(xiàn)工藝支持溝通協調，

★支持自動脫模，電磁加熱功能

國內(nèi)外大于 10 個客戶

★工藝包括：

納米壓印膠旋涂工藝支持

納米壓印模板防粘工藝支持體系，避免脫模粘膠影響

納米壓印機(jī)參數(shù)調(diào)節(jié)

軟模板工藝保障性，包括 PDMS 模板、SFP 以及 Hybrid Mold 工藝

ICP 刻蝕工藝

柔性聚合物襯底壓印工藝責任製，Nickel Template 金屬鎳模板熱壓 PET十分落實、PMMA 等

舉離（Lift-off）工藝支持，加工金屬結(jié)構(gòu)

納米壓印表征技術(shù)

更新壓印工藝研發(fā)指導(dǎo)規則製定，文獻(xiàn)支持

技術(shù)能力

該設(shè)備的發(fā)明人2001年至 2003 年製造業，在納米壓印技術(shù)發(fā)明人、 美國普林斯頓大學(xué) StephenY.Chou 教授的納米結(jié)構(gòu)實(shí)驗(yàn)室作為研究助理進(jìn)行了為期 3 年的研究工作關規定，發(fā)展了紫外光固化納米壓印工藝與材料發展基礎，對納米壓印技術(shù)的發(fā)展做出了重要的貢獻(xiàn)。2004 年加入材料科學(xué)與工程系后繼續(xù)圍繞納米微加工技術(shù)與納米壓印技術(shù)開展研究工作安全鏈，研發(fā)了數(shù)種新型納米壓印材料顯示，發(fā)展了新型高分子壓印模板創新為先，提出了曲面納 米壓印技術(shù)真正做到；利用 863 課題“紫外光固化和熱壓兩用納米壓印設(shè)備的研制與應(yīng)用”項目的支持，研制成功具有紫外光固化和熱壓功能兩用納米壓印設(shè)備創新延展，現(xiàn)已成為產(chǎn)品強化意識，并被南京大學(xué)、北京航空航天大學(xué)基本情況、國防科技大學(xué)現場、黑龍江大學(xué)高端化、中科院深圳研究院等多家高校和科研機(jī)構(gòu)所采用，形成了具有自主知識產(chǎn)權(quán)的納米壓印核心技術(shù)我有所應，申請和獲得了多項中國與美國提單產，技術(shù)水準(zhǔn)與當(dāng)前該水平同步。