P-17是第八代臺(tái)式探針輪廓儀。支持對臺(tái)階高度總之、粗糙度面向、翹曲度和應(yīng)力進(jìn)行2D和3D測量，其掃描可達(dá)200mm而無需圖像拼接同時。
該系統(tǒng)結(jié)合了UltraLite®傳感器互動式宣講、恒力控制和超平掃描平臺(tái)，因而具備出色的測量穩(wěn)定性模式。 通過點(diǎn)擊式平臺(tái)控制自動化、頂視和側(cè)視光學(xué)系統(tǒng)以及帶光學(xué)變焦的相機(jī)等功能，程序設(shè)置簡便快速高品質。 P-17具備用于量化表面形貌的各種濾鏡不折不扣、調(diào)平和分析算法，可以支持2D或3D測量資源優勢。 并通過圖案識(shí)別高效利用、排序和特征檢測實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)測量。
二估算、功能
設(shè)備特點(diǎn)
臺(tái)階高度：幾納米至1000μm
微力恒力控制：0.03至50mg
樣品全直徑掃描講理論，無需圖像拼接
視頻：500萬像素高分辨率彩色攝像機(jī)
圓弧校正：消除由于探針的弧形運(yùn)動(dòng)引起的誤差
軟件：簡單易用的軟件界面
生產(chǎn)能力：通過測序的可能性、圖案識(shí)別和SECS/GEM實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化
主要應(yīng)用
臺(tái)階高度：2D和3D臺(tái)階高度
紋理：2D和3D粗糙度和波紋度
形狀：2D和3D翹曲和形狀
應(yīng)力：2D和3D薄膜應(yīng)力
缺陷復(fù)檢：2D和3D缺陷表面形貌
工業(yè)應(yīng)用
半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體
LED：發(fā)光二極管
太陽能
MEMS：微機(jī)電系統(tǒng)
數(shù)據(jù)存儲(chǔ)
汽車
醫(yī)療設(shè)備
三、應(yīng)用案例
臺(tái)階高度
P-17可以提供納米級到1000μm的2D和3D臺(tái)階高度的測量服務為一體。 這使其能夠量化在蝕刻問題，濺射，SIMS全會精神，沉積緊密相關，旋涂，CMP和其他工藝期間沉積或去除的材料先進技術。P-17具有恒力控制功能培訓，無論臺(tái)階高度如何都可以動(dòng)態(tài)調(diào)整并施加相同的微力。這保證了良好的測量穩(wěn)定性并且能夠精確測量諸如光刻膠等軟性材料宣講手段。
紋理：粗糙度和波紋度
P-17提供2D和3D紋理測量并量化樣品的粗糙度和波紋度重要工具。軟件濾鏡功能將測量值分為粗糙度和波紋度部分，并計(jì)算諸如均方根（RMS）粗糙度之類的參數(shù)配套設備。
外形：翹曲和形狀
P-17可以測量表面的2D形狀或翹曲更優質。這包括對晶圓翹曲的測量，例如半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中的多層沉積期間由于層與層的不匹配是導(dǎo)致這種翹曲的原因推進高水平。P-17還可以量化包括透鏡在內(nèi)的結(jié)構(gòu)高度和曲率半徑脫穎而出。
應(yīng)力：2D和3D薄膜應(yīng)力
P-17能夠測量在生產(chǎn)包含多個(gè)工藝層的半導(dǎo)體或化合物半導(dǎo)體器件期間所產(chǎn)生的應(yīng)力。使用應(yīng)力卡盤將樣品支撐在中性位置并精確測量樣品翹曲生產創效。 然后通過應(yīng)用Stoney方程註入新的動力，利用諸如薄膜沉積工藝的形狀變化來計(jì)算應(yīng)力。2D應(yīng)力通過在直徑達(dá)200mm的樣品上通過單次掃描測量，無需圖像拼接雙重提升。3D應(yīng)力的測量采用多個(gè)2D掃描，并結(jié)合θ平臺(tái)在掃描之間的旋轉(zhuǎn)對整個(gè)樣品表面進(jìn)行測量事關全面。
缺陷復(fù)檢
缺陷復(fù)查用于測量如劃痕深度之類的缺陷形貌表現明顯更佳。 缺陷檢測設(shè)備找出缺陷并將其位置坐標(biāo)寫入KLARF文件。 “缺陷復(fù)檢”功能讀取KLARF文件技術節能、對準(zhǔn)樣本指導，并允許用戶選擇缺陷進(jìn)行2D或3D測量。
