NS3500高速3D激光共聚焦顯微鏡是韓國Nanoscope Systems 公司專門為低維材料研究所研發(fā)的一款高速3D顯微鏡前來體驗。與傳統(tǒng)的3D探針輪廓儀相比較，NS3500使用405nm的激光作為光源確定性，進(jìn)行無損傷檢測更加廣闊，不與樣品的表面直接接觸損耗，因此不會損傷樣品的表面，測量精度遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于探針輪廓儀不斷發展。

NS3500三維激光共聚焦顯微鏡

NS-3500是一種精確積極影響、可靠的三維(3D)測量高速共焦激光掃描顯微鏡(CLSM)自動化方案。通過快速光學(xué)掃描模塊和信號處理算法實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)共焦顯微圖像緊密協作。在測量和檢測微觀三維結(jié)構(gòu)，如半導(dǎo)體晶片效率，F(xiàn)PD產(chǎn)品規模，MEMS設(shè)備，玻璃基板講道理，材料表面等方面擁有*的解決方案發展目標奮鬥。

Features & Benefits（性能及優(yōu)勢）：

• 高分辨無損傷光學(xué)3D測量                               自動傾斜補(bǔ)償

• 實(shí)時(shí)共焦成像                                                 簡單的數(shù)據(jù)分析模式

• 多種光學(xué)變焦                                                 雙Z掃描

  大范圍拼接                                                    半透明基材的特征檢測

• 實(shí)時(shí)CCD明場和共聚焦成像                            無樣品準(zhǔn)備

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Software (軟件）：

Application field（應(yīng)用領(lǐng)域）：

NS-3500是測量低維材料的有前途的解決方案。

可測量微米和亞微米結(jié)構(gòu)的高度更多的合作機會，寬度延伸，角度，面積和體積服務好，例如

-半導(dǎo)體:IC圖形新趨勢，凹凸高度，線圈高度共謀發展，缺陷檢測學習，CMP工藝

- FPD產(chǎn)品:觸摸屏屏幕檢測，ITO圖案聽得懂，LCD柱間距高度

- MEMS器件:結(jié)構(gòu)三維輪廓應用優勢，表面粗糙度，MEMS圖形

-玻璃表面:薄膜太陽能電池全方位，太陽能電池紋理高效節能，激光圖案

-材料研究:模具表面檢測，粗糙度大局，裂紋分析

Specification (規(guī)格）：

精細(xì)和長距離掃描儀的雙重掃描模式僅適用于NS-3500-S（單鏡頭類型）新創新即將到來。                

注1:精細(xì)掃描由壓電執(zhí)行器（PZT）執(zhí)行。

注2 :以100×/ 0.95物鏡對標(biāo)準(zhǔn)樣品（步長1μm）進(jìn)行100次測量主動性。      

注 3 :以100×/ 0.95物鏡對標(biāo)準(zhǔn)樣品（5μm間距）進(jìn)行100次測量創造性。