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Veeco - 全自動(dòng)原子層沉積(ALD)系統(tǒng)

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公司名稱 香港電子器材有限公司
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更新時(shí)間 2021/3/2 19:59:32
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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化流程，降低對(duì)人的依賴度製造業；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連優化服務策略，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前發展基礎，消除后續(xù)工序兩個角度入手，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴同期。

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美國(guó) Veeco
全自動(dòng)原子層沉積(ALD)系統(tǒng)

Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經(jīng)有15年以上的ALD研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)
2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學(xué)生產效率，05年搬到Boston并生產(chǎn)出Thermal ALD - Savannah，之后生產(chǎn)出Plasma ALD – Fuji效果、批量生產(chǎn)ALD-Phoenix使用。2017年被Veeco收購(gòu)，并更新了Batch HVM ALD – Firebird密度增加。至今為止有效性，Veeco在ALD設(shè)備已有15年多的經(jīng)驗(yàn)，已安裝五百多臺(tái)ALD設(shè)備機遇與挑戰。

　

　

　

　

　

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