膜厚儀-Otsuka是一套快速、準(zhǔn)確的顯微分光膜厚測量儀實施體系，通過測量顯微區(qū)域的光譜反射率組建，能夠非常精確地分析薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)，非破壞性和非接觸式厚度測量可以在多層膜和各種涂層上進(jìn)行效果較好，包括薄膜重要的意義、晶圓片和光學(xué)材料等，測量速度可達(dá)1秒/點(diǎn)等多個領域。

顯微分光膜厚儀OPTMseries-光學(xué)膜厚儀-光學(xué)膜厚測試儀 產(chǎn)品描述：

顯微分光膜厚儀OPTMseries-光學(xué)膜厚儀-光學(xué)膜厚測試儀 是一套快速再獲、準(zhǔn)確的顯微分光膜厚測量儀，通過測量顯微區(qū)域的光譜反射率應用擴展，能夠非常精確地分析薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)體驗區，可以在多層薄膜和薄膜，晶片和光學(xué)材料等各種涂層上進(jìn)行非破壞性和非接觸式厚度測量活動上，測量速度可達(dá)1秒/點(diǎn)有望。可以測量的技術(shù)參數(shù)包括：反射率測量厚度分析導向作用，光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率k：消光系數(shù)）方案。

工作原理：

Otsuka使用光干涉法和高性能光譜儀提供高精度的非接觸式和非破壞性厚度測量。光干涉法是使用分光光度計光學(xué)器件反射率的光學(xué)厚度分析技術(shù)十大行動。 以金屬基材上的涂膜為例左右，從上方照射的光束在涂層表面（R1）上反射。此外綜合措施，透射光束在基材或邊界（R2）上反射可靠保障。根據(jù)由光程差和相移引起的光干涉行為，可以使用反射光譜和折射率來計算膜厚度建言直達。分析算法為峰谷法多種，快速傅里葉變換（FFT）方法，非線性小二乘法和優(yōu)化方法充分發揮。

OPTM系列膜厚測量所需的所有功能都集成在測量頭中發展成就，可使用顯微鏡進(jìn)行高精度的反射率測量（多層膜的厚度和光學(xué)常數(shù)）。這款光學(xué)系統(tǒng)，可使用顯微鏡在寬波長范圍（紫外至近紅外）進(jìn)行測量每點(diǎn)少于1秒的高速測量并且配有帶區(qū)域傳感器的安全裝置開展面對面。簡易分析向?qū)到y，任何人，甚至未?jīng)培訓(xùn)的操作人員進一步提升，都可以輕松進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析快速融入。軟件程序包括用于定制測量序列的宏功能，可以進(jìn)行各種自定義系統。

技術(shù)參數(shù)：

測量參數(shù)

• 光譜范圍：230~800nm/360~1100nm/900~1600nm
• 膜厚范圍：1nm~35μm/7nm~49μm/16nm~92μm
• 樣品尺寸：Max. 200 x 200 x 17 mm
• 點(diǎn)徑：φ5μm（反射40倍鏡頭）提高，改造后可達(dá)3μm
• 測量時間：1秒/點(diǎn)
• 尺寸：本體（W555xD537xH559mm）可以使用，控制單元（W500xD180xH288mm）
• 功耗：750VA
• 可選電壓：AC 90 -110 V / 200-240 V

自動XY平臺類型：

• 尺寸(WDH)：556×566×618mm
• 重量：66kg
• 大功耗：500VA

固定框架類型：

• 尺寸(WDH)：368×468×491mm
• 重量：38kg
• 大功耗：400VA

內(nèi)置測量頭類型：

• 尺寸(WDH)：210×441×474mm/90×250×190mm
• 重量：23/4 kg
• 大功耗：400VA

升級選項(xiàng)：

• 光譜儀規(guī)格可選（OPTM-A1/OPTM-A2/OPTM-A3）
• 根據(jù)具體測試需求，接受定制

測量案例：