公司介紹：
德國(guó)Incoatec公司在基于薄膜技術(shù)的X射線(xiàn)光學(xué)器件方面擁有20年以上的經(jīng)驗(yàn)不斷完善。Incoatec公司的光學(xué)器件被用于*的X射線(xiàn)衍射測(cè)量數字化、光譜測(cè)定和同步加速器射束線(xiàn)上。主打產(chǎn)品包括用于各種領(lǐng)域和針對(duì)微焦點(diǎn)光源方案的多層X(jué)射線(xiàn)光學(xué)器件著力提升。用新的光學(xué)器件和X射線(xiàn)源來(lái)升級(jí)X射線(xiàn)分析設(shè)備深刻內涵。計(jì)算機(jī)化的光學(xué)器件模擬、各類(lèi)襯底的生產(chǎn)和薄膜表征使INCOATEC的服務(wù)更為完善融合，為重工業(yè)深入闡釋，化學(xué)，制藥完成的事情，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)物聯與互聯，生命科學(xué)和納米技術(shù)提供解決方案，是可靠改造層面，高效和用戶(hù)友好型產(chǎn)品有很大提升空間，具備德國(guó)制造的精髓充足。
產(chǎn)品介紹：
Incoatec可為光束制導(dǎo)去突破、塑形以及其他光學(xué)實(shí)驗(yàn)使用的同步光學(xué)組件提供薄膜鍍層擴大。Incoatec*的沉積技術(shù)可以進(jìn)行各種材料的單層和多層鍍膜，長(zhǎng)度高達(dá)150cm有力扭轉。與合作伙伴一起上高質量，我們可以提供很多完整的光學(xué)解決方案。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
低斜率誤差
低粗糙度
高反射率
高穩(wěn)定性和高損傷閾值
主要應(yīng)用：
Fig.7 The deviation of the desired shape is less than ± 0.2 %.
沉積和表征：
層沉積
我們對(duì)多種材料組合的單層和多層鍍膜有豐富的經(jīng)驗(yàn)深入交流，我們既可以沉積單層膜條紋，亦可得到在橫向與深度上有不同厚度梯度的長(zhǎng)可達(dá)150cm的多層鍍膜加強宣傳。該涂層的特點(diǎn)是均勻性好臺上與臺下，粘附力強(qiáng)，高密度設計能力，低粗糙度和高反射率品牌。
Fig.1 Linear sputter coating unit with 4 different target materials
XRR 表征
多層膜參數(shù)，如層厚更為一致、密度均勻性等形式、粗糙度、反射率和反差系數(shù)比用Cu-Kα(8048eV)在膜的不同位置用XRR進(jìn)行表征。
Fig.2 The thickness uniformity over 150 cm is better than1%
多層膜的XRR測(cè)量
多層鍍膜由 X 射線(xiàn)反射法（XRR）檢測(cè)飛躍。通過(guò)對(duì)一階Bragg 峰的定量分析更高效，可測(cè)定大反射率、積分強(qiáng)度與能量分辨率重要部署。
通過(guò) XRR 測(cè)量緊密協作，可對(duì)鍍層的界面粗糙度與材料密度進(jìn)行推演以獲得盡可能明晰和平滑的界面，同時(shí)也是為了在單層之間獲得的密度差線上線下。布拉格峰角度可以用來(lái)計(jì)算雙層厚度周期發揮重要作用，這就是所謂的d值。
Fig.3 Laterally Graded Multilayer Optics: The film thickness variation along the substrate and the ideal and acceptable thickness gradients are shown.
應(yīng)用介紹：
全反射鏡片
全反射鏡在同步輻射射束線(xiàn)站上被用于射束的引導(dǎo)和準(zhǔn)直數據顯示。此類(lèi)鏡片用于 X 射線(xiàn)掠入射高質量。因此需要越來(lái)越多的長(zhǎng)度100cm甚至更長(zhǎng)的光學(xué)鏡片。
Fig.4 Various mirror substrates: 50 cm fused silica, 60 cm Zerodur®, 100 cm silicon
Fig.5 Stripe coating on a 50 cm silicon substrate
多層膜光學(xué)組件
這些光學(xué)組件包含多層薄膜記得牢，達(dá)到只有幾納米厚的單層膜都是非晶註入了新的力量。多層膜可能有幾百層，如果材料有高密度差同時(shí)有低吸收率更多可能性，X 射線(xiàn)相關(guān)的兩個(gè)參數(shù)吸收和色散依賴(lài) X 射線(xiàn)波長(zhǎng)去創新。所以要達(dá)到優(yōu)異效果，每種波長(zhǎng)都需要特定的多層膜緊迫性。為了滿(mǎn)足客戶(hù)特殊要求結構，我們可以進(jìn)行 X 射線(xiàn)光學(xué)模擬。就可獲得高反射率多元化服務體系。
Fig.6 Bendable 400 mm silicon multilayer optics
雙晶體多層膜單色器
在成像用射束線(xiàn)站中規劃，多層膜光學(xué)組件常被用作雙晶體多層單色器（DCMM）擴大公共數據。例如深度，斷層掃面中，一個(gè)均勻和穩(wěn)定的光束輪廓是必需的核心技術體系，以便進(jìn)行背景校正開拓創新。但由于輻射的強(qiáng)干擾性，在設(shè)計(jì)光學(xué)組件的時(shí)候須特別謹(jǐn)慎以避免光束質(zhì)量退化必然趨勢。我們生產(chǎn)的多層鍍膜促進善治，可含多至5種條紋，薄膜不均勻度低于0.2%且厚度具有橫向梯度多樣性。
