公司介紹：
德國Microworks 公司成立于 2007年, 是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）微技術(shù)研究所 (IMT) 衍生的子公司提供有力支撐。通過使用X 射線和激光LIGA技術(shù)，Microworks為客戶提供高精度微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品建議。在微納米技術(shù)領(lǐng)域品率，Microworks代表著高精度。在一個晶片內(nèi)或者從一個晶片到另一個晶片不斷發展，其高縱橫比和精度可以遠低于1µm積極影響。其產(chǎn)品涵蓋相襯成像光柵、微齒輪緊密協作、雙曲型電極越來越重要、精密篩、近紅外濾波器（選頻濾波器）規模、微彈簧近年來，RF等。
產(chǎn)品介紹：
由于材料中x射線的折射率略小于1發展目標奮鬥，所以x射線透鏡有一個雙凹透鏡原件技術先進，每個聚焦元的焦距都非常小。通過線性地對齊許多元件延伸，焦距可以顯著地減少到幾厘米的范圍認為。
沿光軸放置許多小透鏡元件，使入射的x射線光束逐漸聚焦到一個微米級焦點上新趨勢。使用90度交替排列的原件使用垂直方向和水平方向都可以實現(xiàn)聚焦反應能力。透鏡元件的由SU-8光刻膠制成的，像聚合物在硅晶圓上。環(huán)氧樹脂抗蝕劑SU-8過去常使用在平板印刷過程中有所提升，它主要由高靈敏度聽得進、高靈敏度新的力量、x射線透明先進水平，且化學(xué)性能好和機械穩(wěn)定性的特點。目前透鏡的X射線穩(wěn)定性已經(jīng)測試到了≈2 MJ/cm3全面展示。
優(yōu)勢：
光軸不發(fā)生改變
聚焦質(zhì)量不會因長時間曝光而改變
易于安裝
菲涅爾透鏡可選
如果你需要CRL鏡重要平臺，請告訴我們
1. 光子能量（KEV）（單色）
2. 光源尺寸(V [µm]× H [µm], FWHM)
3. SD，光源到鏡片中心距離（m）
4. WD, 工作距離核心技術，鏡片中心到焦點距離（mm）
5. 光源和透鏡間光學(xué)元件(虛擬光源應用提升，聚焦元件)的位置和和這些元件所在位置的光束尺寸。
6. 需要的聚焦光斑尺寸:(V [μm]× H [μm], FWHM)
7. 鏡頭中心到探測器平面的距離
