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Grating X射線光柵及LIGA微結(jié)構(gòu)

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公司介紹:

德國Microworks 公司成立于 2007年, 是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)微技術(shù)研究所 (IMT) 衍生的子公司自主研發。通過使用X 射線和激光LIGA技術(shù)確定性,Microworks為客戶提供高精度微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品。在微納米技術(shù)領(lǐng)域損耗,Microworks代表著高精度講故事。在一個(gè)晶片內(nèi)或者從一個(gè)晶片到另一個(gè)晶片,其高縱橫比和精度可以遠(yuǎn)低于1µm性能穩定。其產(chǎn)品涵蓋相襯成像光柵全面革新、微齒輪、雙曲型電極情況正常、精密篩建設項目、近紅外濾波器(選頻濾波器)、微彈簧落實落細,RF等相結合。

產(chǎn)品介紹:

X射線光柵的制作流程

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司


吸收光柵

(a)準(zhǔn)備光柵膠層

(b)掩膜光刻膠層在X射線下曝光

(c)形成精細(xì)的光刻膠結(jié)構(gòu)

(d)電鍍金形成X射線光柵結(jié)構(gòu)


產(chǎn)品特點(diǎn):

  • 高縱橫比結(jié)構(gòu)

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司


  • 極小周期

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

  • 大面積X射線

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)面積

4英寸基板: 70~90mm的直徑

6英寸基板:高達(dá)110mm(在某些情況

有限制)


更大尺寸選項(xiàng)

拼接多個(gè)光柵面板

在單個(gè)制作工藝上擴(kuò)大結(jié)構(gòu)面積(研發(fā))



  • 彎曲光柵

椎束照射高縱橫比光柵,為了避免影像影響製高點項目,可采用彎曲光柵為產業發展,可使用特殊的夾具來運(yùn)輸

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司


主要應(yīng)用:

  • 用于Talbot干涉儀的X射線光柵

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司
北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

微焦源Talbot干涉成像儀

光源:微焦X射線管

E=25keV

加速電壓:40KV

電流:120 μA

G1:周期4.37 μm(Ni)

G2: 周期2.4μm(Au)

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

在SR裝置BL-14C線站的Talbot干涉實(shí)驗(yàn)

E=17.8 keV

Al 濾片 2.0 mm


G1:周期 2.4 μm (Ni)

G2:周期 2.4 μm (Au)





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