DE300電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
LOAD LOCK預(yù)真空進(jìn)樣室(可選)
前開(kāi)門蒸發(fā)腔體
冷凝泵和干泵
多坩堝位旋轉(zhuǎn)電子槍
zui大6”基片
基片旋轉(zhuǎn)
基片偏壓(可選)
離子源清洗基片(可選)
基片加熱1000度(可選)
晶振沉積速率及膜厚控制
系統(tǒng)手動(dòng)或自動(dòng)控制
良好的薄膜均勻性和重復(fù)性
可沉積金屬、半導(dǎo)體和絕緣材料
可沉積多層膜
來(lái)函索取詳細(xì)資料
DE TECHNOLOG

DE300電子束蒸發(fā)系統(tǒng)

LOAD LOCK預(yù)真空進(jìn)樣室（可選） 

· 前開(kāi)門蒸發(fā)腔體 

· 冷凝泵和干泵 

· 多坩堝位旋轉(zhuǎn)電子槍 

· zui大6”基片 

· 基片旋轉(zhuǎn) 

· 基片偏壓（可選） 

· 離子源清洗基片（可選） 

· 基片加熱1000度（可選） 

· 晶振沉積速率及膜厚控制 

· 系統(tǒng)手動(dòng)或自動(dòng)控制 

· 良好的薄膜均勻性和重復(fù)性 

· 可沉積金屬提供有力支撐、半導(dǎo)體和絕緣材料 

· 可沉積多層膜

來(lái)函索取詳細(xì)資料

DE TECHNOLOGY LIMITED

德儀科技有限公司

Cell: 

.: ,67832717

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德儀科技有限公司專業(yè)進(jìn)口美國(guó)磁控濺射切實把製度、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)和脈沖激光真空薄膜沉積設(shè)備自行開發，以及磁控濺射源/電源進行部署、電子束蒸發(fā)源、濺射靶材和蒸發(fā)材料應用情況、閥門保護好、真空計(jì)和流量計(jì)、真空密封穿導(dǎo)件等各種真空部件表現。十幾年來(lái)特點，憑著的品質(zhì)，*的技術(shù)和周到的技術(shù)服務(wù)結論，德儀公司的產(chǎn)品為中國(guó)的高校和諧共生、科研院所及企業(yè)的薄膜沉積工作提供了有力的支持！ 

      我們期待為您提供您使用的真空薄膜沉積設(shè)備和部件技術！ 

主要產(chǎn)品：

                 Sputter 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng) 
                  E-Beam 電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng) 
                  Thermal 熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng) 
                  PLD 脈沖激光鍍膜系統(tǒng) 
                  Sputter Sources 磁控濺射陰極 
                  DC/RF Power Supply 直流/射頻電源 
                  E-Beam Sources 電子束蒸發(fā)源 
                  Thermal EVP Sources 熱蒸發(fā)源 
                  Deposition Materials 濺射靶材和蒸發(fā)鍍膜材料 
                  Sample Manipulator 樣品臺(tái) 
                  Feedthroughs 電子穿導(dǎo)器件 
                  Vacuum Valves 真空閥門 
                  Vacuum Components 真空配件 
  
                  的品質(zhì)了解情況、優(yōu)質(zhì)的服務(wù)是我們的宗旨！