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DE350 Sputter 二氧化硅濺射系統(tǒng)濺射鍍膜機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 德儀科技有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào)
  • 所在地 北京市
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2015/11/28 11:00:00
  • 訪問(wèn)次數(shù) 906

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前開門濺射腔體
冷凝泵和干泵
1個(gè)6” 磁控濺射源
射頻電源
側(cè)面濺射
zui大6”基片
基片水冷
PID濺射壓力控制
系統(tǒng)手動(dòng)或自動(dòng)控制
高速率濺射二氧化薄膜

詳細(xì)信息 在線詢價(jià)

  • 前開門濺射腔體
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  • 1個(gè)6” 磁控濺射源
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  • zui大6”基片
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  • 系統(tǒng)手動(dòng)或自動(dòng)控制
  • 高速率濺射二氧化薄膜

 

德儀科技有限公司專業(yè)進(jìn)口美國(guó)磁控濺射指導、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)和脈沖激光真空薄膜沉積設(shè)備國際要求,以及磁控濺射源/電源增持能力、電子束蒸發(fā)源、濺射靶材和蒸發(fā)材料等組成部分。十幾年來(lái)影響,憑著的品質(zhì)新的動力,*的技術(shù)和周到的技術(shù)服務(wù),德儀公司的產(chǎn)品為中國(guó)的高校發展契機、科研院所及企業(yè)的薄膜沉積工作提供了有力的支持廣泛關註。

   我們期待為您提供您使用的真空薄膜沉積設(shè)備和部件!
 

主要產(chǎn)品:

                 Sputter 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
                  E-Beam 電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng) 
                  Thermal 熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
                  PLD 脈沖激光鍍膜系統(tǒng) 
                  Sputter Sources 磁控濺射陰極
                  DC/RF Power Supply 直流/射頻電源
                  E-Beam Sources 電子束蒸發(fā)源 
                  Thermal EVP Sources 熱蒸發(fā)源
                  Deposition Materials 濺射靶材和蒸發(fā)鍍膜材料
                  Sample Manipulator 樣品臺(tái) 
                  Feedthroughs 電子穿導(dǎo)器件
                  Vacuum Valves 真空閥門 
                  Vacuum Components 真空配件 
  
                  的品質(zhì)發力、優(yōu)質(zhì)的服務(wù)是我們的宗旨優勢領先!

 


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