德儀科技有限公司專業(yè)進(jìn)口美國磁控濺射更加廣闊、電子束蒸發(fā)規劃、熱蒸發(fā)和脈沖激光真空薄膜沉積設(shè)備，以及磁控濺射源/電源方便、電子束蒸發(fā)源基礎上、濺射靶材和蒸發(fā)材料等。十幾年來應用領域，憑著的品質(zhì)保持競爭優勢，*的技術(shù)和周到的技術(shù)服務(wù)，德儀公司的產(chǎn)品為中國的高校發展機遇、科研院所及企業(yè)的薄膜沉積工作提供了有力的支持長效機製。

我們期待為您提供您使用的真空薄膜沉積設(shè)備和部件！

• LOAD LOCK預(yù)真空進(jìn)樣室（可選）
• 前開門濺射腔體
• 冷凝泵和干泵
• 多達(dá)6個(gè)磁控濺射源
• 直流全技術方案、射頻或脈沖電源
• 朝上或朝下濺射
• zui大8”基片
• 基片旋轉(zhuǎn)
• 基片偏壓（可選）
• 基片加熱1000度（可選）
• 基片冷卻（可選）
• 多達(dá)四路工藝氣體
• PID濺射壓力控制
• 系統(tǒng)手動(dòng)或自動(dòng)控制
• 良好的薄膜均勻性和重復(fù)性
• 可沉積金屬分享、半導(dǎo)體和絕緣材料