Leica EM ACE200 低真空鍍膜儀 2018/06/20 　　Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀影響，可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能，或者同時(shí)具有這兩種功能的過程中。能夠滿足日常SEM需求發展契機，也可用于X-射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜促進進步。全自動(dòng)電腦控制發力，自動(dòng)完成抽真空，鍍膜迎來新的篇章，放氣等全過程共創美好，一鍵操作。采用當(dāng)下非常流行的觸摸屏控制薄弱點，簡(jiǎn)單方便覆蓋範圍。特點(diǎn)　　? 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式積極性，或者雙模式奮勇向前，可選輝光放電（用于網(wǎng)格表面親水化）　　? 設(shè)計(jì)脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可精確控制碳膜厚度　　? 可選石英膜厚檢測(cè)器實施體系，精確控制鍍膜厚度組建，精度達(dá)0.1nm　　? 全自動(dòng)程序控制，自動(dòng)完成抽真空效果較好，鍍膜重要的意義，放氣等過程　　? 觸摸屏控制，簡(jiǎn)單方便　　? 真空度≤7×10 -3 mbar　　? 濺射電流：0-150mA可調(diào)　　? 方形樣品倉(cāng)設(shè)計(jì)開放以來，樣品倉(cāng)尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高）　　? 工作距離調(diào)節(jié)范圍：30mm-100mm

　　Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀占，可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能，或者同時(shí)具有這兩種功能提供了有力支撐。能夠滿足日常SEM需求激發創作，也可用于X-射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜進一步意見。全自動(dòng)電腦控制增幅最大，自動(dòng)完成抽真空，鍍膜生產能力，放氣等全過程標準，一鍵操作。采用當(dāng)下非常流行的觸摸屏控制，簡(jiǎn)單方便重要作用。

特點(diǎn)

　　? 可任選離子濺射模式持續向好、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式充足，可選輝光放電（用于網(wǎng)格表面親水化）

　　? 設(shè)計(jì)脈沖式碳絲蒸發(fā)方式進展情況，可精確控制碳膜厚度

　　? 可選石英膜厚檢測(cè)器，精確控制鍍膜厚度綠色化發展，精度達(dá)0.1nm

　　? 全自動(dòng)程序控制至關重要，自動(dòng)完成抽真空，鍍膜用上了，放氣等過程

　　? 觸摸屏控制提升行動，簡(jiǎn)單方便

　　? 真空度≤7×10 -3 mbar

　　? 濺射電流：0-150mA可調(diào)

　　? 方形樣品倉(cāng)設(shè)計(jì)，樣品倉(cāng)尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高）

　　? 工作距離調(diào)節(jié)范圍：30mm-100mm