德儀科技有限公司專(zhuān)業(yè)進(jìn)口美國(guó)磁控濺射可持續、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)和脈沖激光真空薄膜沉積設(shè)備體製，以及磁控濺射源/電源構建、電子束蒸發(fā)源、濺射靶材和蒸發(fā)材料等服務延伸。十幾年來(lái)共創輝煌，憑著的品質(zhì)，*的技術(shù)和周到的技術(shù)服務(wù)調解製度，德儀公司的產(chǎn)品為中國(guó)的高校精準調控、科研院所及企業(yè)的薄膜沉積工作提供了有力的支持。

我們期待為您提供您使用的真空薄膜沉積設(shè)備和部件

• LOAD LOCK預(yù)真空進(jìn)樣室（可選）
• 前開(kāi)門(mén)濺射腔體
• 冷凝泵和干泵
• 3個(gè)磁控濺射源
• 直流應用的因素之一、射頻或脈沖電源
• 朝上或朝下濺射
• zui大6”基片
• 基片旋轉(zhuǎn)
• 基片偏壓（可選）
• 基片加熱1000度（可選）
• 多達(dá)四路工藝氣體
• PID濺射壓力控制
• 系統(tǒng)手動(dòng)或自動(dòng)控制
• 良好的薄膜均勻性和重復(fù)性
• 可沉積金屬解決、半導(dǎo)體和絕緣材料
• 可沉積多層膜及合金薄膜