德儀科技有限公司專業(yè)進(jìn)口美國磁控濺射、電子束蒸發(fā)基礎、熱蒸發(fā)和脈沖激光真空薄膜沉積設(shè)備性能，以及磁控濺射源/電源、電子束蒸發(fā)源對外開放、濺射靶材和蒸發(fā)材料等技術創新。十幾年來，憑著的品質(zhì)資料，*的技術(shù)和周到的技術(shù)服務(wù)廣泛應用，德儀公司的產(chǎn)品為中國的高校、科研院所及企業(yè)的薄膜沉積工作提供了有力的支持橫向協同。

我們期待為您提供您使用的真空薄膜沉積設(shè)備和部件哪些領域！

• LOAD LOCK預(yù)真空進(jìn)樣室（可選）
• 前開門蒸發(fā)腔體
• 冷凝泵和干泵
• 4個(gè)熱阻蒸發(fā)源或OLED低溫蒸發(fā)源
• zui大6”基片
• 基片旋轉(zhuǎn)
• 基片偏壓（可選）
• 離子源清洗基片（可選）
• 基片加熱1000度（可選）
• 晶振沉積速率及膜厚控制
• 系統(tǒng)手動或自動控制
• 良好的薄膜均勻性和重復(fù)性
• 可沉積金屬、半導(dǎo)體和絕緣材料
• 可沉積多層膜及合金薄膜