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DE400D THERMAL 北京高校半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室DE400D 熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

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參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 德儀科技有限公司
品牌
型號(hào) DE400DTHERMAL
所在地 北京市
廠商性質(zhì) 代理商
更新時(shí)間 2015/12/9 19:00:00
訪問次數(shù) 361

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促銷詳細(xì)：

2020年01月08日至 2020年02月08日

特價(jià)促銷

模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化積極性，降低對(duì)人的依賴度奮勇向前；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離實施體系，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前組建，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化效果較好，降低對(duì)人的依賴重要的意義。

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

我也要發(fā)布產(chǎn)品信息

DE400D熱阻蒸發(fā)儀可配置一個(gè)多組蒸發(fā)源，基片架裝于腔體頂部旋轉(zhuǎn)或腔體側(cè)面水平轉(zhuǎn)動(dòng)的軸上基片可以改變鍍膜角度

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The DE400D Thermal Evaporator is assembled with multiple thermal evaporation source, the substrate is mounting on

the top of the chamber and rotary or on the horizontal axial on the side of chamber for the substrate polar to change the

deposition angle

DE400D熱阻蒸發(fā)儀可配置一個(gè)多組蒸發(fā)源等多個領域，基片架裝于腔體頂部旋轉(zhuǎn)或腔體側(cè)面水平轉(zhuǎn)動(dòng)的軸上基片可以改變鍍膜角度

Configuration

主要配置

Evaporation Chamber

蒸發(fā)腔體

304 stainless steel chamber with viewport

蒸發(fā)腔體為304不銹鋼占，并有觀察窗

Vacuum Pumping

真空泵

Cryo-pump or Turbo pump and dry rough pump

配備冷凝泵或分子泵和無油機(jī)械泵

Vacuum Valve

真空閥門

Pneumatic HV gate valves

氣動(dòng)控制高真空插板閥

Evaporation Source

蒸發(fā)源

Multiple thermal evaporation source

多組熱蒸發(fā)源

Optional Load Lock chamber

樣品室

304 stainless steel chamber with viewport

蒸發(fā)腔體為304不銹鋼，并有觀察窗

Sample Stage

樣品臺(tái)

Top mount and rotary or Side mount polar Substrate

頂部安裝旋轉(zhuǎn)的樣品臺(tái)或側(cè)面安裝的轉(zhuǎn)角樣品臺(tái)

Film Control

膜厚檢測(cè)

Crystal Film thickness Monitor and Control

晶振膜厚監(jiān)控

Vacuum Gauging

真空測(cè)量

Wide range vacuum gauge and rough gauge

寬量程真空計(jì)用于測(cè)量真空和粗抽計(jì)

Specification

主要技術(shù)指標(biāo)

The Base Vacuum Pressure

極限真空度

Better than 5E-8 Torr

優(yōu)于5E-8托

Sample Loading Capacity

裝樣能力

One Max. 8 inch flat substrate or multi small substrate

一個(gè)zui大8英寸的平板基片或多個(gè)小基片

Max. Evaporation Temperature

zui高蒸發(fā)溫度

1500oC

Rate Resolution

蒸發(fā)速率分辨率

0.05 Angstroms/sec

Thickness Resolution = 0.02 Angstroms

膜厚分辨率

0.02 Angstroms

Features

特點(diǎn)

D shape Chamber of front open door for easy inside operation

D型腔體前開門便于腔體內(nèi)部操作和維護(hù)

Stand along system frameworks and electric rack

獨(dú)立的系統(tǒng)機(jī)架和電器柜

The deposition process can be accuray controlled by source

temperature or film thickness control

薄膜沉積工藝可以通過準(zhǔn)確的溫度控制提供了有力支撐，也可通過膜厚儀準(zhǔn)確控制速率

Optional Substrate Cooling or heating

樣品臺(tái)可選水冷或加熱

Typical Application

典型應(yīng)用

For R&D Thin Film Deposition

用于薄膜沉積研發(fā)

Ideal tools for LIFT-OFF process

用于LIFT-OFF工藝的理想平臺(tái)

Ideal tools for GLAD process with side mount substrate stage

若采用側(cè)裝樣品臺(tái)可用成為GLAD工藝的理想平臺(tái)

Evaporate metal, Semiconductor or Insulation Materials （material depends）

可蒸發(fā)金屬激發創作，半導(dǎo)體或介質(zhì)材料（視具體材料而定）

客戶評(píng)價(jià)列表

評(píng)價(jià)時(shí)間	類別	詳細(xì)內(nèi)容	評(píng)價(jià)者	IP地址

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DE400D THERMAL 北京高校半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室DE400D 熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

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