德儀科技有限公司專(zhuān)業(yè)進(jìn)口美國(guó)磁控濺射姿勢、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)和脈沖激光真空薄膜沉積設(shè)備首要任務，以及磁控濺射源/電源綠色化、電子束蒸發(fā)源不同需求、濺射靶材和蒸發(fā)材料等。十幾年來(lái)保持穩定，憑著的品質(zhì)總之，*的技術(shù)和周到的技術(shù)服務(wù)，德儀公司的產(chǎn)品為中國(guó)的高校支撐作用、科研院所及企業(yè)的薄膜沉積工作提供了有力的支持研學體驗。

我們期待為您提供您使用的真空薄膜沉積設(shè)備和部件！

• LOAD LOCK預(yù)真空進(jìn)樣室（可選）
• 前開(kāi)門(mén)蒸發(fā)腔體
• 冷凝泵和干泵
• 多坩堝位旋轉(zhuǎn)電子槍
• zui大6”基片
• 基片旋轉(zhuǎn)
• 基片偏壓（可選）
• 離子源清洗基片（可選）
• 基片加熱1000度（可選）
• 晶振沉積速率及膜厚控制
• 系統(tǒng)手動(dòng)或自動(dòng)控制
• 良好的薄膜均勻性和重復(fù)性
• 可沉積金屬最為突出、半導(dǎo)體和絕緣材料
• 可沉積多層膜