SPI公司(Structure Probe, Inc.)創(chuàng)立于1970年重要工具，創(chuàng)立之初以電鏡分析服務為主，1975年創(chuàng)立耗材部門全面闡釋，銷售電鏡的試片制作工具及耗材非常激烈。該公司產(chǎn)品包括SEM、TEM集中展示、SPM甚至Laser Microscope 的耗材實力增強，儀器部分包括鍍碳鍍金機、電漿表面清潔或蝕刻機及電漿鍍鋨機等探索創新。

臺式等離子蝕刻機/灰化系統(tǒng)帶來全新智能，適用于多種多樣的樣品材料和工藝氣體。

Plasma Prep III是Plasma Prep系列產(chǎn)品的成員新產品。該系統(tǒng)加入了固態(tài)技術(shù)去完善，包括一體式真空計。該系統(tǒng)采用低成本設計長遠所需，比如只設單一氣體進口求索。添加選配的工藝控制模塊可以擴展系統(tǒng)的功能，實現(xiàn)多種氣體精確混合，并且當工藝完成時穩定發展，可以自動關(guān)閉系統(tǒng)基石之一。

典型應用領(lǐng)域：

• 電子顯微觀察樣品制備

• 替代濕法化學蝕刻

• 去除光阻殘留物

• 去除有機污染物

• 孔眼清洗

• 石棉分析

• 失效分析

系統(tǒng)規(guī)格：

• 13.56 MHz射頻等離子體(RF plasma)

• 桶式設計反應室

• 功率可調(diào)節(jié)，從1到100瓦

• 一體式真空計

• 尺寸：12″寬×15″深× 10.5″高

（31 cm寬×38 cm深×27 cm高）

• 反應室尺寸：4″直徑×6″深

• 獲得CE認證增持能力，符合RoHS

系統(tǒng)包括：

• Plasma Prep III

• 派熱克斯玻璃或石英反應室

• 真空軟管（NW 16）

• 電線

場所要求：

• 工藝氣體：5磅/平方英寸（表壓）

• 真空泵

• 電力：100 V to 240 V, 50/60 Hz