產(chǎn)品名稱

VTC-180EVS濺射蒸發(fā)一體機

主要特點

1、磁控濺射和電阻蒸發(fā)雙應用充分發揮。本機采用可磁控濺射與電阻蒸發(fā)免拆卸轉換結構選擇適用，可快速實現(xiàn)蒸發(fā)源的轉換。
2設計、桌面小型一體化結構業務指導。本機對真空腔體、鍍膜電源及控制系統(tǒng)進行整合設計就此掀開，體積與一臺A3 打印機相仿（不包含真空機組長足發展，480x320x460mm，寬X 高X 深）
3穩步前行、單發揮作用、三靶濺射。本機的磁控濺射單元裝有三支2 英寸磁控靶或一支3 英寸磁控靶逐步顯現。以適應不同用戶的需求銘記囑托。三靶濺射單元裝有靶擋板及靶切換半開關，并與擋板聯(lián)動自動化裝置。
4示範、高性能開關式直流濺射電源。本機配裝我公司自行研制的高性能濺射用直流電流有很大提升空間，由于采用開關電源所以對濺射過程中產(chǎn)生的弧光放電具有非常強的抑制作用運行好；電源還具有恒流和恒功率兩種濺射工作方式，以適用不同用
戶的需求前景。
5進一步意見、雙蒸發(fā)源。蒸發(fā)單元中裝有兩組蒸發(fā)電極可安裝不同的蒸發(fā)源共享應用，適應相應的鍍膜材料生產能力。
6標準、高穩(wěn)定度恒流蒸發(fā)電源。本機配裝0.1%精度蒸發(fā)電源堅持好，并具有恒流輸出功能即將展開，對蒸發(fā)舟能起到很好的保護作用。
7特性、鍍膜厚度與速率控制傳承。本鍍膜機可選配本公司研制石英晶體膜厚控制儀，在鍍膜過程中可對鍍膜速率和膜層厚度進行控制建言直達。
8多種、數(shù)據(jù)記錄。鍍膜機可將采集到的鍍膜數(shù)據(jù)保存到U 盤充分發揮，便于用戶分析控制(選配)發展成就。
9、模塊化設計同時。本機將所有功能單設計成標準化模塊，根據(jù)用戶不的需求對相應模塊進行組合效高性。以達到化的鍍膜環(huán)境模式。并便于用戶維修與維護。
10提升、圖形化操作界面及觸屏控制高品質。本機操作控制采用7 英寸TFT 顯示屏顯示操作界面，觸屏操作支撐能力，實現(xiàn)全圖形化界面資源優勢，易用易懂。

技術參數(shù)

1特征更加明顯、濺射靶規(guī)格： 2 英寸/3 支（帶擋板）或3 英寸1 支（圖1估算、圖2）

2、蒸發(fā)電源功率： 1000W/5V/200A（圖3）
3、蒸發(fā)電極有效距離： 55mm（圖3）

4、樣品臺規(guī)格: 直徑150mm(可選配旋轉創新科技、擋板和偏壓功能)（圖4）

5深入開展、供電電壓： AC220V/2000W
6、濺射電源功率： 500W/600V

7協調機製、膜厚測量精度： 0.1Å 或0.01Å（高精度型）
8、充氣流量: 50SCCM/100SCCM(兩路選配)
9、氣源壓力: <0.15KPa
10長效機製、外接真空機組: 2 升(AC220V)可選配國產(chǎn)擴散泵機組、國產(chǎn)機組或進口機組全技術方案。
11分享、真空接口規(guī)格： KF40
12共享、極限真空度: >2.0x10-3Pa、2.0x10-4Pa
13表示、工作真空度: 3~0.5Pa（磁控）
14全面闡釋、冷卻水壓力: 0.2~0.4Kpa
15、使用環(huán)境溫度: <35℃
16競爭力所在、使用環(huán)境濕度: <75%(相對濕度)不結露
17引人註目、使用環(huán)境海拔: <1500m

（圖1）

（圖2）

（圖3）

（圖4）

產(chǎn)品規(guī)格

1、外型尺寸: 480x320x460(寬x 高x 深)不包含真空泵
2溝通機製、重量: 約47Kg 不包含真空泵