雙折射測量儀PA-Micro是日本Photonic lattice公司傾力打造的雙折射/應(yīng)力測量儀最新，PA系列測量雙折射測量范圍達0-130nm技術創新，可以測量的樣品范圍從幾個毫米到近500毫米。PA系列雙折射測量儀以其技術(shù)的光子晶體偏光陣列片重要作用，*的雙折射算法設(shè)計制造持續向好，得到每片樣品僅需幾秒鐘的測量能力習慣，使其成為業(yè)內(nèi)，特別是工業(yè)界雙折射測量/應(yīng)力測量的選擇進展情況。

雙折射測量儀PA-Micro主要特點：

• 操作簡單的積極性，測量速度可以快到3秒。
• 視野范圍內(nèi)可一次測量生產效率，測量范圍廣使命責任。
• 更直觀的全面讀取數(shù)據(jù)，無遺漏數(shù)據(jù)點使用。
• 具有多種分析功能和測量結(jié)果的比較合規意識。
• 維護簡單，不含旋轉(zhuǎn)光學(xué)濾片的機構(gòu)有效性。
• 高達2056x2464像素的偏振相機創新內容。

雙折射測量儀PA-Micro應(yīng)用領(lǐng)域：

• 通信光纖
• 晶體
• 醫(yī)學(xué)細(xì)胞

技術(shù)參數(shù)：