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∑IGMA 掃描電子顯微鏡 場發(fā)射電子顯微鏡∑IGMA 德國.蔡司

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 江蘇萬科科教儀器有限公司
  • 品牌
  • 型號 ∑IGMA
  • 所在地 徐州市
  • 廠商性質(zhì) 其他
  • 更新時(shí)間 2015/11/29 17:00:01
  • 訪問次數(shù) 916

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供應(yīng)掃描電子顯微鏡 場發(fā)射電子顯微鏡∑IGMA 德國.蔡司,歡迎洽談帶動產業發展!

詳細(xì)信息 在線詢價(jià)

詳細(xì)描述:

 

品牌:卡爾·蔡司

型號:∑IGMA

 

制造商:德國卡爾蔡司公司

 

【品牌故事】

      世界*光學(xué)品牌責任製,可見光及電子光學(xué)的----德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其電子光學(xué)前身為LEO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋)倍增效應,積掃描電鏡領(lǐng)域40多年及透射電鏡領(lǐng)域60年的經(jīng)驗(yàn)規則製定,ZEISS電子束技術(shù)在世界上創(chuàng)造了數(shù)個(gè)*:

 

  *臺靜電式透射電鏡(1949)

  *臺商業(yè)化掃描電鏡(1965)

  *臺數(shù)字化掃描電鏡(1985)

  *臺場發(fā)射掃描電鏡(1990)

  *臺帶有成像濾波器的透射電鏡(1992)

  *臺具有Koehler照明的200kV場發(fā)射透射電鏡(2003)

  *臺具有鏡筒內(nèi)校正Omega能量濾波器的場發(fā)射透射電鏡(2003)

 

       CARL ZEISS以其前瞻性**的設(shè)計(jì)融合歐洲*制造工藝造就了該品牌在光電子領(lǐng)域無可撼動的*地位。自成立至今優化服務策略,一直延續(xù)不斷創(chuàng)新的傳統(tǒng)道路,公司擁有電鏡制造zui核心的專有技術(shù),隨著離子束技術(shù)和基于電子束的分析技術(shù)的加入真諦所在、是*為您提供鎢燈絲掃描電鏡指導、場發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)充分、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業(yè)進一步完善。其產(chǎn)品的高性能、高質(zhì)量競爭力、高可靠性和穩(wěn)定性已得到*廣大用戶的信賴與認(rèn)可調整推進。作為電鏡標(biāo)準(zhǔn)*的CARL ZEISS將一路*電鏡市場為您開創(chuàng)探求納米科技的嶄新紀(jì)元。

 

【總體描述】

      采用*的第三代GEMINI鏡筒的∑IGMA場發(fā)射電子顯微鏡在處理所有材料方面有杰出表現(xiàn)。GEMINI鏡筒因其操作簡單機製,極低壓成像和超穩(wěn)定探測電流等優(yōu)勢得到廣大用戶的認(rèn)可全過程,同時(shí)可提供高分辨率的能譜分析和波譜分析.                  

      IGMA可處理直徑達(dá)250mm和高為145mm的試樣,此外探討,理想的共面設(shè)計(jì)使得能譜分析(EDS)和背散射電子分析(EBSD)同時(shí)使用不負眾望。

 

【技術(shù)參數(shù)】

  分辨率:1.3nm@ 20KV   1.5nm@ 15KV     2.8nm@ 1KV  

  放大倍數(shù):121,000,000x  

  加速電壓:0.1-30KV  

  探針電流:4 pA - 20 nA (4pA-40nA可選

  樣品室:330 mm (φ) x 270 mm (h)  

  樣品臺:5軸優(yōu)中心全自動

                   X = 125 mm  

                   Y = 125 mm  

                   Z = 50mm

                   T = 0 - 90°  

                   R = 360°連續(xù)旋轉(zhuǎn)  

  系統(tǒng)控制:基于Windows XPSmartSEM操作系統(tǒng),可選鼠標(biāo)、鍵盤調解製度、控制面板控制

 

【產(chǎn)品應(yīng)用】      

      掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料鋼鐵精準調控、冶金、有色應用的因素之一、機(jī)械加工和非金屬材料化學(xué)解決、化工、石油敢於監督、地質(zhì)礦物學(xué)幅度、橡膠、紡織重要的作用、水泥貢獻、玻璃纖維等檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究各方面、金屬材料、陶瓷材料成效與經驗、半導(dǎo)體材料適應性、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織稍有不慎、成分分析方法,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析提供有力支撐,材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析切實把製度,元素定量、定性成分分析自行開發,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量進行部署,晶體、晶粒的相鑒定應用情況,晶粒尺寸保護好、形狀分析,晶體表現、晶粒取向測量特點。


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