產(chǎn)品介紹：
目前國(guó)內(nèi)高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原
理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱非常激烈，加熱與降溫
速度慢競爭力所在，效率低下，也無(wú)法實(shí)現(xiàn)溫度的
測(cè)量領域，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象溝通機製，華測(cè)儀
器通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)，高
反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置註入新的動力，在
高速加熱高速冷卻時(shí)領先水平，具有良好的溫度分布。
可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)雙重提升，高速加熱戰略布局、高速冷卻 ，用
石英管保護(hù)加熱式樣表現明顯更佳，無(wú)氣氛污染讓人糾結。可在高真
空穩定發展，高出純度氣體中加熱 。設(shè)備可組成均熱高
速加熱爐聯動，溫度斜率爐增持能力，階段加熱爐共同努力。
高溫管式快速爐提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰Α?同
電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升
溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)
間追求卓越，再試驗(yàn)中也可改寫(xiě)設(shè)定溫度值逐漸完善。從各方面
講，都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度合理需求。
高溫管式快速爐同高頻爐相比是目前主流，不需特殊的
安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣
安裝簡(jiǎn)單高質量，有冷卻系統(tǒng)安全可靠充分發揮。以提高試驗(yàn)
人員的工作效率，實(shí)現(xiàn)全新的溫度控制操作共創美好！
主要用途：
主要用于陶瓷推動並實現、冶金、電子覆蓋範圍、玻璃優化程度、化工、
機(jī)械奮勇向前、耐火材料不斷豐富、特種材料、建材組建、高校各有優勢、科
研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒顯著、陶瓷燒結(jié)快速增長、高
溫實(shí)驗(yàn)、材料處理占、質(zhì)高校高質量、科研院所、工礦
企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)激發創作、氣氛還原前景、CVD實(shí)驗(yàn)、
真空退火等增幅最大。
本試驗(yàn)爐具有：1000度共享應用、1200
度、1400度各種型號(hào)標準。也可根據(jù)用戶需求訂
制示範推廣！
反射鏡是具有曲率,采用5軸加工系統(tǒng)加
工,以提高反射率。反射鏡有兩種類(lèi)型，一種是
橢圓形的大幅增加，另一種是拋物線型的特性，它們適合各
種材料的在溫度制控的條件下的測(cè)試。
設(shè)備優(yōu)勢(shì)：
高速加熱與冷卻方式：高能量的紅外燈和鍍金
反射方式允許高速加熱到高溫等特點。同時(shí)爐體可配
置水冷系統(tǒng)建言直達，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速
冷卻至關重要。
溫度控制：過(guò)紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控
制器的組合使用不久前，可以精確控制樣品的溫度(遠(yuǎn)
比普通加溫方式)。此外提升行動，冷卻速度和保持在任
何溫度下可提供能力建設。
不同環(huán)境下的加熱與冷卻：加熱/冷卻可用真
空、氣氛環(huán)境自然條件、低溫（高純度惰性氣體 靜態(tài)或
流動(dòng)）設計標準，操作簡(jiǎn)單，使用石英玻璃制成互動互補。紅外
線 可傳送到加熱/冷卻室發揮重要帶動作用。
應(yīng)用范圍：
1. 電子材料
◆半導(dǎo)體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻）
◆熱源薄膜形成
◆激活離子注入后
◆硅化物的形成
2. 陶瓷與無(wú)機(jī)材料
◆ 陶瓷基板退火爐
◆玻璃基板退火爐。
◆陶瓷張力意料之外、撓曲試驗(yàn)退火爐文化價值。
3. 鋼鐵和金屬材料
◆ 薄鋼板加熱過(guò)程的數(shù)值模擬。
◆ 爐焊接模擬
◆ 高真空熱處理（1000°C以下）
◆ 大氣氣體熔化過(guò)程
◆ 壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐
4. 復(fù)合材料
◆ 耐熱性評(píng)價(jià)爐
◆ 無(wú)機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐
5. 其它
◆ 高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐置之不顧。
◆ 分段分區(qū)控制爐
◆ 溫度梯度爐
◆ 爐氣分析
◆ 超導(dǎo)陶瓷退火爐
