PDMS芯片制作一般包含以下所列舉工藝：① 清洗；② 勻膠穩步前行；③ 曝光光刻意見征詢；④ 顯影；⑤ 烤膠大大提高；⑥ PDMS成型的必然要求；⑦ 等離子表面活化處理；⑧ 鍵合取得了一定進展；⑨ 打孔完善好。EasyPDMS微流控芯片制作系統(tǒng)可以提供完成以上各工藝流程的整套系統(tǒng)或單個設備。

PDMS微流控芯片制作系統(tǒng) EasyPDMS

圖片

簡介

PDMS芯片制作一般包含以下所列舉工藝：① 清洗積極參與；② 勻膠問題分析；③ 曝光光刻培養；④ 顯影；⑤ 烤膠更加完善；⑥ PDMS成型形式；⑦ 等離子表面活化處理；⑧ 鍵合支撐作用；⑨ 打孔日漸深入。EasyPDMS微流控芯片制作系統(tǒng)可以提供完成以上各工藝流程的整套系統(tǒng)或單個設備。

用戶可以根據(jù)自己的需求從設備列表中選取所對應工藝的設備綜合措施，同時可靠保障，我們也提供PDMS芯片制作實驗室的整體方案設計和搭建服務，從潔凈間設計到實驗室布局設計標準，再到設備選擇開展，以及用戶采購后的安裝調(diào)試及培訓， 客戶只需要提出需求發揮重要帶動作用，我們提供一整套服務發展成就，可以做到交鑰匙工程。

工藝及設備對應表格：

規(guī)格參數(shù)

功能圖解

設備簡介

 清洗工藝：超聲清洗機（左）和CUTE 等離子清洗機（右）

② 勻膠工藝（2選1）：SC100勻膠顯影（左）和ZentriForm PDMS成型機（右重要方式，具備勻膠功能）

 曝光光刻（2選1）：UV-KUB 2單層光刻機（左）和UV-KUB 3對位光刻機（右）

④ 顯影：SC100勻膠顯影機

⑤ 烤膠：HP100 精密熱板

⑥PDMS成型：ZentriForm PDMS成型機

⑦等離子表面活化處理：CUTE 等離子清洗機

⑧鍵合：HP100 精密熱板

⑨打孔：打孔器

應用系統(tǒng)

PDMS芯片制作