白光干涉薄膜厚度測(cè)量?jī)xDelta利用薄膜干涉光學(xué)原理各方面，對(duì)薄膜進(jìn)行厚度測(cè)量及分析防控。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面，探頭同位接收反射光線適應性。

 白光干涉薄膜厚度測(cè)量?jī)xDelta利用薄膜干涉光學(xué)原理堅實基礎，對(duì)薄膜進(jìn)行厚度測(cè)量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面重要作用，探頭同位接收反射光線等地。白光干涉薄膜厚度測(cè)量?jī)xDelta根據(jù)反射回來(lái)的干涉光，用反復(fù)校準(zhǔn)的算法快速反演計(jì)算出薄膜的厚度尤為突出。測(cè)量范圍1nm-3mm規定，可同時(shí)完成多層膜厚的測(cè)試。對(duì)于100nm以上的薄膜進行部署，還可以測(cè)量n和k值振奮起來。

產(chǎn)品特點(diǎn)

快速、準(zhǔn)確利用好、無(wú)損、靈活解決問題、易用系列、性價(jià)比高

應(yīng)用領(lǐng)域                               

半導(dǎo)體（SiO2/SiNx、光刻膠相互配合、MEMS慢體驗，SOI等）         LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亞酰胺ITO等)              LED (SiO2智能化、光刻膠ITO等）

觸摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率測(cè)試等)                            汽車(防霧層科技實力、Hard Coating DLC等）                            醫(yī)學(xué)（聚對(duì)二甲苯涂層球囊/*壁厚藥膜等）

注：1.取決于材料0.4%或2nm之間取較大者。

2. 可選微光斑附件建設。