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MKD 8000 高級(jí)薄膜測(cè)定系統(tǒng)

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NKD-8000系統(tǒng)綜合了光學(xué)環境、電子學(xué)和高級(jí)分析軟件空間載體,是目前測(cè)定多層薄膜和基片的折射率、吸收系數(shù)和厚度zui精確相對簡便、zui易用的系統(tǒng)

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應(yīng)用

高級(jí)薄膜測(cè)定系統(tǒng)

NKD-8000系統(tǒng)綜合了光學(xué)重要組成部分、電子學(xué)和高級(jí)分析軟件,是目前測(cè)定多層薄膜和基片的折射率合作、吸收系數(shù)和厚度zui精確勃勃生機、zui易用的系統(tǒng)。NKD-8000系列產(chǎn)品具有全自動(dòng)極致用戶體驗、可同時(shí)測(cè)定透過(guò)光譜和反射光譜提供有力支撐,入射光角度從0°到90°連續(xù)改變。對(duì)分光光譜儀而言,這是一項(xiàng)*的新功能品率,使得NKD-8000適用于挑戰(zhàn)性的光學(xué)測(cè)量相貫通。對(duì)多層薄膜和基片的n、k和d的測(cè)定變得準(zhǔn)確積極影響、快捷集聚效應。

 
技術(shù)指標(biāo)

 

 

光譜范圍                      

NKD-8000     350nm—1000nm ( 標(biāo)準(zhǔn)模式 )

NKD-8000v    280nm—1000nm ( 紫外增強(qiáng)型)

NKD-8000r    800nm—1700nm ( 紅 外 型 ) 

NKD-8000w    350nm—1700nm (寬光譜 型 )          

NKD-8000e    350nm—2200nm (超寬光譜 型 )

注:寬光譜型提供兩個(gè)檢測(cè)器,可以覆蓋350nm到1000nm和800nm到1700nm或2200nm (僅適用nkd-8000e)重要手段,但二者不能同時(shí)用互動講。

 

獲得數(shù)據(jù)時(shí)間                  

2—10分鐘,這取決于光譜范圍和不同選件

 

數(shù)據(jù)分析時(shí)間                  

5秒—5分鐘像一棵樹,取決于數(shù)據(jù)的復(fù)雜程度

 

光譜分辨率                   

1nm或2nm (可選)

 

光源                           

NKD-8000v    150W 氙弧燈

其他          高穩(wěn)態(tài)100W石英鎢鹵燈          

 

樣品尺寸                       

10×10mm到200×250mm標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng),100mm 直徑樣品的掃描臺(tái)

 

層數(shù)                           

至多5層講故事,兩個(gè)未知參數(shù)

 

薄膜厚度范圍                  

1nm到25um,取決于角度性能穩定、偏振和波長(zhǎng)

1nm 需要增加橢偏模塊

 

基片                           

透明全面革新、半透明或半吸收或半導(dǎo)體

 

材料                           

電介質(zhì)、高聚物情況正常、半導(dǎo)體和金屬

 

精確度                         

對(duì)于半吸收薄膜         典型           zui大

薄膜厚度               <1%          <3%

折射率                 <0.1%        <1%

消光系數(shù)               <1%          <3%

                          

對(duì)于金屬薄膜

薄膜厚度               <1%          <3%

折射率                 <1%          <3%

消光系數(shù)               <1%          <3%

 

重現(xiàn)性                          

透射率                 <0.01%      <0.1%

反射率                 <0.01%      <1%

折射系數(shù)               <0.01%      <0.1%

 

入射光角度            

30°行業分類、50°或70°(標(biāo)準(zhǔn)單元)或由客戶的從

20°到70°連續(xù)可變(可變角版本)或3個(gè)位置角度

 

樣品上的光斑尺寸              

5mm(標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)),250um(選件)

 

電源                           

220V提高鍛煉,50Hz發展邏輯,2A 或110V,60Hz有所提升,3A

 

外觀尺寸                      

890×540×720mm

 

重量                           

105Kg

 

選件                           

多角度聽得進,可變角度,X-Y樣品掃描臺(tái)先進水平,多種標(biāo)準(zhǔn)尺寸品架便利性。樣品觀測(cè)顯微鏡。手動(dòng)或全軟件控制的偏振選件(s-重要平臺、p-或非偏振)深刻認識。樣品加熱臺(tái)。臺(tái)式機(jī)或工業(yè)PC應用提升。      

 
特點(diǎn)
 

主要特點(diǎn)

◆ 可測(cè)定波長(zhǎng)范圍從280nm到2300nm的透射和反射光譜

◆ 在同一區(qū)域可同時(shí)測(cè)定T和R值

◆ 可對(duì)折射率(n)主動性,吸收系數(shù)(k) 和厚度(d)進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)定

◆ 樣品可在X-Y掃描臺(tái)上進(jìn)行掃描

◆ 入射光角度可以是固定角度、多角度和從0°到90°的連續(xù)變化的角度

◆ 可用s-要素配置改革、p-或非偏振光作為入射光對(duì)T和R進(jìn)行測(cè)定

◆ 可對(duì)透明基片進(jìn)行測(cè)定且不需要對(duì)樣品進(jìn)行前處理

◆ 內(nèi)建的材料數(shù)據(jù)庫(kù)

◆ 密封的樣品室

◆ 可選擇散射模式

◆ 具有在線或離線分析功能

對(duì)T和R同時(shí)測(cè)定

KD-8000系統(tǒng)在同一個(gè)光斑處體系,同時(shí)對(duì)透過(guò)光譜和發(fā)射光譜進(jìn)行測(cè)定,保證了兩套數(shù)據(jù)具有直接的相關(guān)性帶動產業發展。通過(guò)測(cè)定這些光譜責任製,全自動(dòng)的控制和分析軟件系統(tǒng)可以從中得到n十分落實、k和d值。而且所有這些都源自同一次測(cè)定規則製定。不同散射模式的選擇使得對(duì)寬廣范圍材料的分析成為可能製造業,而且用戶可以選擇缺省模式或者高級(jí)分析模式。

 

功能強(qiáng)大的Pro-OptixTM控制和分析軟件系統(tǒng)包括一個(gè)可編輯的數(shù)據(jù)庫(kù)關規定,它允許對(duì)材料進(jìn)行預(yù)先定義發展基礎,以提高分析速度。該軟件的其他特點(diǎn)包括顏色的匹配和太陽(yáng)光的計(jì)算以及金屬薄膜的算法迎難而上。樣品可以是透明的積極、不透明的或者半吸收的而無(wú)需對(duì)它們特殊處理。

NKD-8000是*一款能全部提供上述功能的分光型光學(xué)薄膜分析系統(tǒng)堅持先行,它為薄膜表征設(shè)立了一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)產業。

可變的入射光角度

①反射光檢測(cè) ②光束管 ③Y軸坐標(biāo) ④透射光檢測(cè)器 ⑤Z軸坐標(biāo) ⑥X軸坐標(biāo) ⑦樣品臺(tái) ⑧馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的可變角度選擇裝置

NKD-8000系統(tǒng)提供可變的角度選擇裝置,它提供*馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的情況較常見,可由PC機(jī)控制入射光的角度可持續,入射角度從從0°到90°可自由選擇。

通過(guò)使用分析軟件中的集成工具就可實(shí)現(xiàn)對(duì)T和R的s-偏振光譜和p-偏振光譜進(jìn)行獨(dú)立分析或二者一起分析體製。

通過(guò)作為選件的X-Y掃描臺(tái)可以對(duì)大尺寸樣品進(jìn)行掃描構建,樣品在X、Y兩個(gè)方向上的zui大行程是100mm服務延伸,同時(shí)保持入射光斑始終位于行程的中間共創輝煌。

在測(cè)定時(shí)有許多樣品架備選,它們可以?shī)A持不同類型尺寸的樣品調解製度。全PC控制使這種方法對(duì)整個(gè)樣品的數(shù)據(jù)收集和分析變得簡(jiǎn)單精準調控、準(zhǔn)確和快捷。

多個(gè)角度

如果在應(yīng)用中只需一些不連續(xù)的入射光角度應用的因素之一,那么多角度選件可以提供一個(gè)滿意的解決方案。從0°到90°預期,用戶可自定義三個(gè)入射光角度敢於監督。

附件

熱臺(tái):可控制樣品溫度至150度,測(cè)定變溫下的T和R結構,對(duì)測(cè)定光學(xué)涂層和基體的光譜位移十分有用重要的作用。

顯微鏡/相機(jī):對(duì)樣品進(jìn)行顯微分析。

微光斑附件:將入射光斑聚焦至200微米規模最大,特別適合表征微小樣品和局部區(qū)域穩中求進。


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