產(chǎn)品概述
金屬材料檢測領(lǐng)域超*的全譜直讀光譜儀
CCD全譜直讀光譜儀采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)是目前主流，采用全數(shù)字化技術(shù)替代龐大的光電倍增管（PMT）模擬技術(shù)充分發揮，與光譜儀技術(shù)同步高質量，采用真空光學(xué)室設(shè)計(jì)及全數(shù)字化激發(fā)光源、*的CCD檢測器選擇適用、高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)管理，使儀器具有*的性能設計、極低的檢出線、*的穩(wěn)定性和重復(fù)性改進措施。適用于金屬制造業(yè)就此掀開、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號識別今年、材料研究和開發(fā)的主要設(shè)備之一穩步前行。
產(chǎn)品特色
1、CCD全譜光譜制造技術(shù)通道不受限制組建。 各有優勢；
2、與光譜儀技術(shù)同步重要的意義，采用真空全譜技術(shù)持續，快速穩(wěn)定。
3再獲、自動譜庫尋找產品和服務，無需再繁瑣的波峰掃描工作。
4體驗區、隨時增加分析材料種類及分析元素增多，無須變動增加硬件。
5有望、智能分析模式共享應用，快速準(zhǔn)確測定各種金屬材料中的元素含量。
6標準、體積小示範推廣、重量輕， 移動安裝方便即將展開。
7大幅增加、高集成度、高可靠性傳承、高穩(wěn)定性等特點。
8、采用真空光室結(jié)構(gòu)相對與沖氬式光譜儀氬氣消耗低多種。
優(yōu)化設(shè)計(jì)的真空光學(xué)系統(tǒng)
光學(xué)系統(tǒng)帕邢-龍格結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)將進一步，所有譜線集成在羅欄園上。
真空技術(shù)整體光學(xué)室裝置及光學(xué)部件整體集成大限度的保障光學(xué)系統(tǒng)的穩(wěn)定性發展成就。
采用直射式光學(xué)技術(shù)及透鏡采取MgF2材料成就，保證C、S開展面對面、P系統、N紫外波長的合適能量非常重要。
全數(shù)字激發(fā)光源
1、全數(shù)字化智能復(fù)合光源DDD技術(shù)空間廣闊，可以根據(jù)不同材料的激發(fā)特點(diǎn)自動調(diào)節(jié)光源激發(fā)參數(shù)認為，真正實(shí)現(xiàn)全數(shù)字化控制。
2增強、采用全數(shù)字控制模式重要意義，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS），超穩(wěn)定的能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品更加廣闊。
3不斷完善、全數(shù)字光源的應(yīng)用，提高了樣品的測量精度和相似性方便，提高了樣品激發(fā)速度基礎上，-提高火花穩(wěn)定性，使樣品有更好的重現(xiàn)性應用領域。
4保持競爭優勢、放電頻率100Hz-1000Hz可調(diào)
5、大放電電流達(dá)到400A發展機遇。
功能性設(shè)計(jì)的激發(fā)裝置
集成氣路設(shè)計(jì)長效機製、噴射電極技術(shù)，*的火花臺以及采用等離子激發(fā)全技術方案，不僅保證樣品測量精度還能夠測量各種復(fù)雜形狀的樣品（含線材）分享。
銅火花臺制造，使樣品激發(fā)中具有良好的散熱效果信息化，保證連續(xù)激發(fā)狀態(tài)下的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性方式之一。
單板式透鏡裝置設(shè)計(jì)，一般人員都能方便對激發(fā)臺進(jìn)行維護(hù)和透鏡的清洗新型儲能。
高集成創新能力、高速度讀出系統(tǒng)
3648像素的高性能CCD固態(tài)檢測技術(shù)，檢測靈敏度高範圍，全譜讀取所有元素的譜線求得平衡，實(shí)現(xiàn)波段內(nèi)的全譜接收，交替放置的CCD探測器滿空間廣闊，動態(tài)范圍大至關重要，譜線選擇靈活。
采用FPGA技術(shù)及高速數(shù)據(jù)通訊技術(shù)服務品質，數(shù)據(jù)讀入功能強(qiáng)大的發生，檢測數(shù)據(jù)整體讀入時間短，提高了儀器的分析速度表現明顯更佳。
直觀更為一致、易操作的分析軟件
基于WINDOWS系統(tǒng)的多國語言的CCD全譜分析軟件全面的管理和控制整個測量過程，為用戶提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力和測試報(bào)告輸出能力技術的開發。
儀器操作全程監(jiān)控研究與應用，實(shí)時報(bào)警，使分析人員及時掌握儀器的分析動態(tài)和運(yùn)營狀態(tài)更高效。
儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及*的解決方案全面協議。
儀器實(shí)現(xiàn)全譜分析，智能扣干擾具體而言，扣暗電流工具、背景和噪聲的算法，*地提高了儀器的分析能力喜愛。
CCD全譜直讀光譜儀產(chǎn)品參數(shù)
分析基體Fe重要的角色、Cu、Al向好態勢、Ni平臺建設、Ti、Co貢獻力量、Zn使用、Sn、Mg發行速度、Pb等
光學(xué)結(jié)構(gòu)帕邢-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
波長范圍130-800nm（可分析N元素）
焦距400mm
光柵刻線3000條/mm
探測器高性能CCD陣列,每塊CCD 3,648 像素更加堅強，
CCD像素分辨率6pm
電極鎢材噴射電極
分析間隙樣品臺分析間隙：4mm
光源類型全新可調(diào)節(jié)數(shù)字化光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）
激發(fā)頻率100-1000Hz
大放電電流400A
